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1. (WO2006038587) COMPLEXE DE MÉTAL BINUCLÉAIRE, TEINTURE DE COMPLEXE DE MÉTAL, TRANSDUCTEUR PHOTOÉLECTRIQUE ET BATTERIE PHOTOCHIMIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/038587    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/018289
Date de publication : 13.04.2006 Date de dépôt international : 03.10.2005
CIB :
C07D 213/79 (2006.01), C07D 239/28 (2006.01), C07D 213/22 (2006.01), C07D 235/20 (2006.01), C07D 471/04 (2006.01), C07D 233/54 (2006.01), C07D 215/12 (2006.01), C07D 215/50 (2006.01), H01L 31/04 (2006.01), C07F 15/00 (2006.01), H01M 14/00 (2006.01)
Déposants : UBE INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 1978-96, O-Aza Kogushi, Ube-shi, Yamaguchi 7558633 (JP) (Tous Sauf US).
KAKUTA, Yoshihisa [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IWASA, Takafumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KAKUTA, Yoshihisa; (JP).
IWASA, Takafumi; (JP)
Mandataire : ITO, Katsuhiro; 4F, Nichito-Hacchobori Bldg. 3-11-83, Hacchobori, Chuou-ku, Tokyo 1040032 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-290075 01.10.2004 JP
2004-290076 01.10.2004 JP
Titre (EN) BINUCLEAR METAL COMPLEX, METAL COMPLEX DYE, PHOTOELECTRIC TRANSDUCER AND PHOTOCHEMICAL BATTERY
(FR) COMPLEXE DE MÉTAL BINUCLÉAIRE, TEINTURE DE COMPLEXE DE MÉTAL, TRANSDUCTEUR PHOTOÉLECTRIQUE ET BATTERIE PHOTOCHIMIQUE
(JA) 二核金属錯体、金属錯体色素、光電変換素子、及び光化学電池
Abrégé : front page image
(EN)A novel binuclear metal complex being an asymmetric binuclear metal complex of the general formula: (L1)2M1(BL)M2(L2)2(X)n (wherein M1 and M2 are each a transition metal and may be identical with or different from each other; L1 and L2 are each a chelate ligand capable of polydentate coordination and are different from each other; two L1s may be identical with or different from each other and two L2s may be identical with or different from each other; BL is a crosslink ligand having at least two heteroatom-containing cyclic structures, the heteroatoms contained in the cyclic structures being atoms coordinating to M1 and M2; X is a counter ion; and n is the number of counter ions needed to neutralize the charge of the complex). The binuclear metal complex is useful as a metal complex dye.
(FR)L’invention concerne un nouveau complexe de métal binucléaire étant un complexe asymétrique de métal binucléaire de la formule générale : (L1)2M1(BL)M2(L2)2(X)n (où M1 et M2 sont chacun un métal de transition et peuvent être identiques ou différents l’un de l’autre; L1 et L2 sont chacun un ligand de chélate capable de coordination polydentate et sont différents l’un de l’autre; deux L1 peuvent être identiques ou différents l’un de l’autre et deux L2 peuvent être identiques ou différents l’un de l’autre; BL est un ligand de réticulation ayant au moins deux structures cycliques contenant des hétéroatomes, les hétéroatomes contenus dans les structures cycliques étant des atomes se coordonnant à M1 et M2; X est un contre-ion; et n est le nombre de contre-ions nécessaires pour neutraliser la charge du complexe). Le complexe de métal binucléaire sert de teinture de complexe de métal.
(JA) 本発明の新規な二核金属錯体は、一般式:(L(BL)M(L(X)(但し、M及びMは、遷移金属であって、同一でも異なっていてもよく、L及びLは、多座配位可能なキレート型配位子であって、LとLは異なるものであり、二つのLは異なるものであってもよく、二つのLも異なるものであってもよく、BLはヘテロ原子を含む環状構造を少なくとも二つ有する架橋配位子であって、M及びMに配位する配位原子がこの環状構造に含まれるヘテロ原子である。Xは対イオンである。nは錯体の電荷を中和するのに必要な対イオンの数を表す。)で示される非対称な二核金属錯体であり、金属錯体色素として有用である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)