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1. (WO2006038472) APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCEDE DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/038472    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/017474
Date de publication : 13.04.2006 Date de dépôt international : 22.09.2005
CIB :
H01L 21/304 (2006.01), H01L 21/306 (2006.01)
Déposants : EBARA CORPORATION [JP/JP]; 11-1, Haneda Asahi-cho, Ohta-ku, Tokyo 1448510 (JP) (Tous Sauf US).
HAMADA, Satomi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KONO, Michihisa [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HAMADA, Satomi; (JP).
KONO, Michihisa; (JP)
Mandataire : MIYAGAWA, Teiji; 6th Floor, Fuji Bldg. 19, Aizumi-cho, Shinjuku-ku Tokyo 1600005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-293774 06.10.2004 JP
2004-336404 19.11.2004 JP
Titre (EN) SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS AND SUBSTRATE TREATMENT METHOD
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCEDE DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理装置及び基板処理方法
Abrégé : front page image
(EN)A substrate treatment apparatus having a fluid supply means (35) for supplying fluid to a substrate (W), a fluid suction section (35a) opened near a fluid jetting section (36a) of the fluid supply means (35), and a fluid recovery means (36) for recovering the fluid near the substrate (W). Fluid caused to float near the substrate by jetting of the liquid from the fluid jetting section to the substrate is sucked and recovered by the fluid recovery means, and this suppresses contamination of the substrate after the substrate is treated by the fluid supplied by the fluid supply means.
(FR)L’invention concerne un appareil de traitement de substrat comportant un moyen d’alimentation en fluide (35) pour alimenter un substrat (W) en fluide, une partie d’aspiration de fluide (35a) ouverte à proximité d’une partie de propulsion de fluide par jet (36a) du moyen d’alimentation en fluide (35), et un moyen de récupération de fluide (36) pour récupérer le fluide à proximité du substrat (W). Le fluide flottant à proximité du substrat suite à la propulsion par jet du liquide par la partie de propulsion de fluide par jet est aspiré et récupéré par le moyen de récupération de fluide, ce qui permet d’éviter la contamination du substrat après son traitement par le fluide apporté par le moyen d’alimentation en fluide.
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)