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1. (WO2006038191) APPAREIL SOURCE DE RAYONS X, APPAREIL DE TOMOGRAPHIE INFORMATISEE ET PROCEDE DE FONCTIONNEMENT D'UN APPAREIL SOURCE DE RAYONS X
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/038191    N° de la demande internationale :    PCT/IB2005/053272
Date de publication : 13.04.2006 Date de dépôt international : 05.10.2005
CIB :
H01J 35/30 (2006.01), H01J 35/14 (2006.01), G01N 23/04 (2006.01)
Déposants : KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. [NL/NL]; Groenewoudseweg 1, NL-5621 BA Eindhoven (NL) (Tous Sauf US).
BARSCHDORF, Hans [DE/DE]; (GB) (US Seulement).
SCHLOMKA, Jens-Peter [DE/DE]; (GB) (US Seulement)
Inventeurs : BARSCHDORF, Hans; (GB).
SCHLOMKA, Jens-Peter; (GB)
Mandataire : WHITE, Andrew, G.; c/o Philips Intellectual Property, & Standards, Cross Oak Lane, Redhill Surrey RH1 5HA (GB)
Données relatives à la priorité :
0422374.9 08.10.2004 GB
Titre (EN) X-RAY SOURCE APPARATUS, COMPUTER TOMOGRAPHY APPARATUS, AND METHOD OF OPERATING AN X-RAY SOURCE APPARATUS
(FR) APPAREIL SOURCE DE RAYONS X, APPAREIL DE TOMOGRAPHIE INFORMATISEE ET PROCEDE DE FONCTIONNEMENT D'UN APPAREIL SOURCE DE RAYONS X
Abrégé : front page image
(EN)An X-ray source apparatus (100) comprises a cathode (101), comprises an electron beam deflection means including one or more electron beam deflection elements (103) and comprises an anode (102). The cathode (101) is adapted to emit an electron beam (104) towards the electron beam deflection means. The electron beam deflection means is adapted to deflect an electron beam (104) coming from the cathode (101) to a selectable part (110) of the anode (102), wherein the selectable part (110) of the anode (102) is selectable to by activating a single one of the one or more electron beam deflection elements (103), with the single activated electron beam deflection element (103) being arranged at a variable position along a propagation path of the electron beam (104) coming from the cathode, (101) such that the electron beam (104) is deflected to the selectable part (110) of the anode (102). The anode (102) is adapted to generate an X-ray beam (104) when being irradiated by an electron beam (104) deflected by the electron beam deflection means.
(FR)L'invention porte sur un appareil source de rayons X (100) qui comprend une cathode (101), des moyens de déviation de faisceau électronique comportant un ou plusieurs éléments de déviation de faisceau électronique (103), et une anode (102). La cathode (101) est apte à émettre un faisceau électronique (104) vers les moyens de déviation de faisceau électronique. Les moyens de déviation de faisceau électronique sont aptes à dévier un faisceau électronique (104) en provenance de la cathode (101) vers une partie sélectionnable (110) de l'anode (102), la partie sélectionnable (110) de l'anode (102) pouvant être sélectionnée par l'activation d'un unique élément parmi les éléments de déviation de faisceau électronique précités (103), ledit unique élément de déviation de faisceau électronique activé (103) étant agencé en une position variable le long d'une trajectoire de propagation du faisceau électronique (104) en provenance de la cathode (101), de manière que le faisceau électronique (104) est dévié vers la partie sélectionnable (110) de l'anode (102). L'anode (102) est apte à produire un faisceau de rayons X (104) lorsqu'elle est irradiée par un faisceau électronique (104) dévié par les moyens de déviation de faisceau électronique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)