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1. (WO2006037527) SUPPORTS POREUX SOLIDES MASQUES PERMETTANT UN ECHANGE AISE ET RAPIDE DE REACTIFS DESTINE A ACCELERER DES MICRORESEAUX A ELECTRODES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/037527    N° de la demande internationale :    PCT/EP2005/010465
Date de publication : 13.04.2006 Date de dépôt international : 28.09.2005
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    17.07.2006    
CIB :
G01N 33/543 (2006.01)
Déposants : PAMGENE BV [NL/NL]; Nieuwstraat 30, NL-5211 NL 's Hertogenbosch (NL) (Tous Sauf US).
VAN BEUNINGEN, Marinus, Gerardus, Johannes [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
VAN DAMME, Hendrik, Sibolt [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
DE WIJN, Richard [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
HANNINK, Jurry, Maurice [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
INGHAM, Colin, John [GB/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : VAN BEUNINGEN, Marinus, Gerardus, Johannes; (NL).
VAN DAMME, Hendrik, Sibolt; (NL).
DE WIJN, Richard; (NL).
HANNINK, Jurry, Maurice; (NL).
INGHAM, Colin, John; (NL)
Mandataire : DE CLERCQ, Ann; De Clercq, Brants & Partners, E. Gevaertdreef 10a, B-9830 Sint-Martens-Latem (BE)
Données relatives à la priorité :
04447216.5 30.09.2004 EP
Titre (EN) MASKED SOLID POROUS SUPPORTS ALLOWING FAST AND EASY REAGENT EXCHANGE TO ACCELERATE ELECTRODE-BASED MICROARRAYS
(FR) SUPPORTS POREUX SOLIDES MASQUES PERMETTANT UN ECHANGE AISE ET RAPIDE DE REACTIFS DESTINE A ACCELERER DES MICRORESEAUX A ELECTRODES
Abrégé : front page image
(EN)Solid porous supports find use in array analysis, as they offer high surface area for contacting the analyzed sample. The present invention provides a solid porous support suitable for array analysis having first and second surfaces, and comprising channels extending from said first surface to said second surface, characterised in that at least one conductive material is applied to predefined regions on said first surface and/or on said second surface and/or inside the channels contained within said solid porous support. Such conductive material(s) may form a high-precision grid delineating physically distinct compartments within the support and thus reduce the risk of cross-contamination in array analysis. Additionally, such conductive material(s) may directly participate in reactions performed on the array by means of their electrical and/or thermal conductivity.
(FR)L'invention concerne des supports poreux solides, utiles dans l'analyse de réseaux car ils présentent une grande surface active à mettre en contact avec l'échantillon analysé. L'invention concerne un support solide poreux adapté à l'analyse de réseaux, comprenant une première et une deuxième surface, ainsi que des canaux s'étendant de la première surface à la deuxième surface, ce support se caractérise en ce qu'au moins un matériau conducteur est appliqué sur des zones prédéfinies de la première surface et/ou de la deuxième surface et/ou à l'intérieur des canaux contenus dans ledit support solide poreux. Ce/ces matériau(x) conducteur(s) peuvent former une grille à haute précision délimitant des compartiments physiquement distincts à l'intérieur du support, ce qui permet de réduire le risque de contamination croisée dans une analyse de réseaux. De plus, ce/ces matériau(x) conducteur(s) peuvent participer directement à des réactions réalisées sur le réseau, du fait de leur conductivité électrique et/ou thermique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)