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1. (WO2006037027) MASQUE A DECALAGE DE PHASE PERMETTANT D'OBTENIR UNE INTENSITE LUMINEUSE EQUILIBREE PAR DIFFERENTES OUVERTURES A DECALAGE DE PHASE ET PROCEDE DE FORMATION DUDIT MASQUE A DECALAGE DE PHASE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/037027    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/034785
Date de publication : 06.04.2006 Date de dépôt international : 26.09.2005
CIB :
G01F 9/00 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01), G03C 5/00 (2006.01)
Déposants : TOPPAN PHOTOMASKS, INC. [US/US]; 131 Old Settlers Boulevard, Round Rock, Texas 78664 (US) (Tous Sauf US).
CHEN, Gong [US/US]; (US) (US Seulement).
KALK, Franklin D. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : CHEN, Gong; (US).
KALK, Franklin D.; (US)
Mandataire : GRABSKI, Eric M.; Baker Botts L.L.P., 1500 San Jacinto Center, 98 San Jacinto Blvd., Austin, TX 78701-4039 (US)
Données relatives à la priorité :
60/613,343 27.09.2004 US
Titre (EN) PHASE-SHIFT MASK PROVIDING BALANCED LIGHT INTENSITY THROUGH DIFFERENT PHASE-SHIFT APERTURES AND METHOD FOR FORMING SUCH PHASE-SHIFT MASK
(FR) MASQUE A DECALAGE DE PHASE PERMETTANT D'OBTENIR UNE INTENSITE LUMINEUSE EQUILIBREE PAR DIFFERENTES OUVERTURES A DECALAGE DE PHASE ET PROCEDE DE FORMATION DUDIT MASQUE A DECALAGE DE PHASE
Abrégé : front page image
(EN)A photomask may include a patterned layer, a phase-shift layer adjacent the patterned layer, a first aperture, a second aperture, and a light-absorbing layer. The first aperture may allow light to pass through the patterned layer and the phase-shift layer and provide a first phase shift. The second aperture may allow light to pass through the patterned layer and the phase-shift layer and provide a second phase shift different than the first phase-shift. The light-absorbing layer may be disposed adjacent the first aperture and may include a light-absorbing material that reduces the intensity of light passing through the first aperture such that the intensity of light passing through the first aperture is substantially equal to the intensity of light passing through the second aperture.
(FR)L'invention concerne un photomasque présentant une couche à motif, une couche à décalage de phase adjacente à la couche à motif, une première ouverture, une seconde ouverture, et une couche absorbant la lumière. La première ouverture permet à la lumière de passer à travers la couche à motif et la couche à décalage de phase, et permet d'obtenir un premier décalage de phase. La seconde ouverture permet à la lumière de passer à travers la couche à motif et la couche à décalage de phase, et permet d'obtenir un second décalage de phase différent du premier décalage de phase. La couche absorbant la lumière peut être disposée de manière adjacente à la première ouverture et peut comprendre un matériau absorbant la lumière réduisant l'intensité de la lumière passant par la première ouverture, de manière que l'intensité de la lumière passant par la lumière ouverture soit sensiblement égale à l'intensité de la lumière passant par la seconde ouverture.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)