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1. (WO2006036221) VERROUILLAGE EN PHASE SPATIALE DE FAISCEAUX D'ENERGIE PERMETTANT DE DETERMINER DES EMPLACEMENTS BIDIMENSIONNELS ET LA FORME DU FAISCEAU
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/036221    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/017300
Date de publication : 06.04.2006 Date de dépôt international : 17.05.2005
CIB :
H01J 37/317 (2006.01), H01J 37/304 (2006.01)
Déposants : MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY [US/US]; 77 Massachusetts Avenue, Cambridge, MA 02139 (US) (Tous Sauf US).
HASTINGS, Jeffrey, T. [US/US]; (US) (US Seulement).
GOODBERLET, James, G. [US/US]; (US) (US Seulement).
ZHANG, Feng [US/US]; (US) (US Seulement).
SMITH, Henry, I. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : HASTINGS, Jeffrey, T.; (US).
GOODBERLET, James, G.; (US).
ZHANG, Feng; (US).
SMITH, Henry, I.; (US)
Mandataire : CONNORS, Matthew, E.; Gauthier & Connors LLP, Suite 3300, 225 Franklin Street, Boston, MA 02110 (US)
Données relatives à la priorité :
60/571,726 17.05.2004 US
Titre (EN) SPATIAL-PHASE LOCKING OF ENERGY BEAMS FOR DETERMINING TWO-DIMENSIONAL LOCATION AND BEAM SHAPE
(FR) VERROUILLAGE EN PHASE SPATIALE DE FAISCEAUX D'ENERGIE PERMETTANT DE DETERMINER DES EMPLACEMENTS BIDIMENSIONNELS ET LA FORME DU FAISCEAU
Abrégé : front page image
(EN)A method or system of spatial-phase locking a beam used in maskless lithography provides a fiducial grid with a single spatial-period, the fiducial grid being rotated at an angle with respect to a direction of scanning the beam; detects a signal generated in response to the beam being incident upon the fiducial grid; determines frequency components of the detected signal; and determines a two-dimensional location of the beam from phases of two determined fundamental frequency component. The method or system further determines a size of the beam from relative amplitudes of the determined fundamental and harmonic frequency components and/or determine a shape of the beam from relative amplitudes of the determined fundamental and harmonic frequency components. The method or system corrects a deflection of the beam in response to the determined two-dimensional location, and/or adjusts the size of the beam in response to the determined size, and/or adjusts the shape of the beam in response to the determined shape. If the method or system spatial-phase locks a plurality of beams used in maskless lithography, a fiducial grid with a varying spatial-period is utilized. In the plural beam method or system, the frequency components for each beam are determined using frequency-division multiplexing.
(FR)Cette invention concerne un procédé ou un système de verrouillage en phase spatiale d'un faisceau utilisé en lithographie sans masque qui fait appel à une grille d'alignement à période spatiale unique, laquelle grille tourne de façon angulaire par rapport à la direction de balayage du faisceau; qui détecte un signal généré en réponse au faisceau frappant la grille d'alignement; et qui détermine un emplacement bidimensionnel du faisceau à partir des phases de deux composants à fréquence fondamentale déterminée De plus, ce procédé ou ce système permettent de déterminer une taille du faisceau à partir d'amplitudes relatives des composants à fréquences fondamentale et harmonique déterminées et/ou de déterminer une forme du faisceau à partir d'amplitudes relatives des composants à fréquences fondamentale et harmonique déterminées. Ce procédé ou ce système permettent de corriger une déviation du faisceau compte tenu de l'emplacement bidimensionnel déterminé, et/ou de régler la taille du faisceau en fonction de la taille déterminée et/ou de régler la forme du faisceau à la forme déterminée. Si le procédé ou le système est utilisé pour le verrouillage en phase spatiale d'une pluralité de faisceaux utilisés en lithographie sans masque, on emploie une grille d'alignement à période spatiale variable. Les composants de fréquence de chaque faisceau sont alors déterminés par multiplexage en fréquence.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)