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1. (WO2006035859) PROCÉDÉ DE MISE EN MOTIFS DE MATÉRIAU AUTO-ORGANISATEUR, SUBSTRAT MIS EN MOTIFS DE MATÉRIAU AUTO-ORGANISATEUR ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DUDIT SUBSTRAT ET PHOTOMASQUE UTILISANT LE SUBSTRAT MIS EN MOTIFS DE MATÉRIAU AUTO-ORGANISATEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/035859    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/017930
Date de publication : 06.04.2006 Date de dépôt international : 29.09.2005
CIB :
B82B 3/00 (2006.01), B29C 59/02 (2006.01), B82B 1/00 (2006.01), B82Y 10/00 (2011.01), B82Y 30/00 (2011.01), B82Y 40/00 (2011.01), G03F 1/00 (2012.01), G03F 1/54 (2012.01), G03F 1/76 (2012.01), H01L 21/027 (2006.01), C12M 1/00 (2006.01), C12N 15/09 (2006.01)
Déposants : JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY [JP/JP]; 1-8, Hon-cho 4-chome, Kawaguchi-shi Saitama 3320012 (JP) (Tous Sauf US).
OHTAKE, Toshihito; (US Seulement).
NAKAMATSU, Ken-ichiro; (US Seulement).
MATSUI, Shinji; (US Seulement).
TABATA, Hitoshi; (US Seulement).
KAWAI, Tomoji; (US Seulement)
Inventeurs : OHTAKE, Toshihito; .
NAKAMATSU, Ken-ichiro; .
MATSUI, Shinji; .
TABATA, Hitoshi; .
KAWAI, Tomoji;
Mandataire : HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi, 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi Osaka5300041 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-287549 30.09.2004 JP
Titre (EN) METHOD OF PATTERNING SELF-ORGANIZING MATERIAL, PATTERNED SUBSTRATE OF SELF-ORGANIZING MATERIAL AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND PHOSOMASK USING PATTERNED SUBSTRATE OF SELF-ORGANIZING MATERIAL
(FR) PROCÉDÉ DE MISE EN MOTIFS DE MATÉRIAU AUTO-ORGANISATEUR, SUBSTRAT MIS EN MOTIFS DE MATÉRIAU AUTO-ORGANISATEUR ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DUDIT SUBSTRAT ET PHOTOMASQUE UTILISANT LE SUBSTRAT MIS EN MOTIFS DE MATÉRIAU AUTO-ORGANISATEUR
(JA) 自己組織化材料のパターニング方法、及び自己組織化材料パターニング基板とその生産方法、並びに自己組織化材料パターニング基板を用いたフォトマスク
Abrégé : front page image
(EN)It is intended to provide a method of patterning a self-organizing material whereby a self-organizing material having a self-organization ability such as a nucleic acid can be aligned and immobilized in a desired manner on a substrate by using the imprint process, a patterned substrate of a self-organizing material and a method of producing the same, and a photomask. An immobilization layer containing a binder capable of binding to a self-organizing material is formed on a substrate. Then this immobilization layer is patterned by transferring an uneven pattern formed in a mold thereto by the imprint process. The self-organizing material is supplied onto the face having the uneven pattern of the immobilization layer transferred thereto. Thus, the self-organizing material is immobilized following the uneven pattern of the immobilization layer owing to the self-organization ability of the material per se and the binding ability of the binder contained in the immobilization layer.
(FR)L’invention porte sur un procédé de mise en motifs de matériau auto-organisateur grâce auquel un matériau auto-organisateur ayant une capacité d’auto-organisation comme un acide nucléique peut être aligné et immobilisé comme on le souhaite sur un substrat à l’aide du procédé d’incrustation, un substrat mis en motifs d’un matériau auto-organisateur et un procédé de fabrication dudit substrat, et un photomasque. Une couche d’immobilisation contenant un liant capable de se lier à un matériau auto-organisateur est formée sur un substrat. Ensuite, cette couche d’immobilisation est mise en motifs par transfert d’un motif irrégulier formé en un moule sur celle-ci selon le procédé d’incrustation. Le matériau auto-organisateur est disposé sur la face ayant le motif irrégulier de la couche d’immobilisation transféré sur celle-ci. Ainsi, le matériau auto-organisateur est immobilisé suivant le motif irrégulier de la couche d’immobilisation grâce à la capacité intrinsèque d’auto-organisation du matériau et la capacité de liaison du liant contenu dans la couche d’immobilisation.
(JA) インプリントプロセスを用いて、核酸等の自己組織化能を有する自己組織化材料を意図したとおりに基板上に配列し、固定化することを可能にする自己組織化材料のパターニング方法、自己組織化材料パターニング基板及びその生産方法、およびフォトマスクを提供する。  自己組織化材料との結合能を有する結合能物質を含む固定化層を基板上に形成し、該固定化層をモールドに形成された凹凸パターンをインプリントプロセスにて転写することでパターニングし、該固定化層の凹凸パターン転写面に上記自己組織化材料を供給し、該自己組織化材料を、自身の自己組織化能と上記固定化層に含まれる上記結合能物質の結合能とにより上記固定化層の凹凸パターンに応じて固定化する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)