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1. (WO2006035565) PROCEDE DE FABRICATION D’UNE ELECTRODE ET/OU BANDE NOIRE POUR SUBSTRAT D’AFFICHAGE A PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/035565    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/015683
Date de publication : 06.04.2006 Date de dépôt international : 29.08.2005
CIB :
H01J 9/02 (2006.01), H01J 17/04 (2012.01), H01J 17/49 (2012.01), H01J 9/20 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP) (Tous Sauf US).
SATOH, Ryohei [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IWATA, Yoshinori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKAGAWA, Koji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TANAKA, Kenji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAKAKI, Satoru [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SATOH, Ryohei; (JP).
IWATA, Yoshinori; (JP).
NAKAGAWA, Koji; (JP).
TANAKA, Kenji; (JP).
TAKAKI, Satoru; (JP)
Mandataire : SENMYO, Kenji; Torimoto Kogyo Bldg. 38, Kanda-Higashimatsushitacho Chiyoda-ku, Tokyo 1010042 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-279497 27.09.2004 JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRODE AND/OR BLACK STRIPE FOR PLASMA DISPLAY SUBSTRATE
(FR) PROCEDE DE FABRICATION D’UNE ELECTRODE ET/OU BANDE NOIRE POUR SUBSTRAT D’AFFICHAGE A PLASMA
(JA) プラズマディスプレイ基板用、電極および/またはブラックストライプの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)There is provided a method for manufacturing an electrode and/or black stripe for plasma display for forming a plasma display panel display electrode, bus electrode, and black stripe is a case, with the same material and by the same dry step. This enables manufacturing with a low load on the environment, at reasonable cost, with low resistance, without causing erosion by dielectric body and display of a clear image by preventing reflection on the PDP display device. A laser beam is applied onto a mask layer formed on a transparent substrate to form openings in areas corresponding to the patterns of the display electrode, the bus electrode, and the black stripe in a case. After this, a reflection prevention layer for preventing reflection and an electrode layer are successively formed on the entire surface. The laser beam is again applied and the mask layer is peeled off. Simultaneously with this, the unnecessary thin film layer is also removed.
(FR)L’invention concerne un procédé de fabrication d’une électrode et/ou bande noire pour un affichage à plasma permettant de former, selon le cas, une électrode d’affichage, une électrode bus et une bande noire pour panneau d’affichage à plasma, en utilisant le même matériau et la même étape de fabrication à sec. L’invention assure une fabrication à faible impact sur l’environnement et à un coût raisonnable, offre une faible résistance, sans érosion par les corps diélectriques, et permet l’affichage d’une image nette en évitant les reflets sur le dispositif d’affichage PDP. Selon l’invention, un faisceau laser est appliqué sur une couche de masquage formée sur un substrat transparent pour former des ouvertures dans des régions correspondant aux motifs de l’électrode d’affichage, de l’électrode bus et de la bande noire, selon le cas. Une couche antireflet empêchant les reflets et une couche d’électrode sont ensuite successivement formées sur la totalité de la surface. Le faisceau laser est une nouvelle fois appliqué pour détacher la couche de masquage. La couche mince superflue est en outre simultanément éliminée.
(JA) プラズマディスプレイパネルの表示電極、バス電極、および場合によりブラックストライプを、同一材料で、同一のドライ工程で形成することにより、環境低負荷で、安価で、低抵抗で、誘電体による侵食がなく、かつPDP表示装置上に反射防止をした鮮明な画像を表示できるプラズマディスプレイ基板用、電極および/またはブラックストライプの製造方法を提供する。  透明基板上に形成したマスク層に、レーザ光を照射して、表示電極、バス電極、および、場合によりブラックストライプの各パターンに相当する領域に開口部を形成した後、全面に反射防止の効果をもたらす反射防止層と、電極層を連続形成し、再びレーザ光を照射して前記マスク層を剥離し、不要な薄膜層を同時に除去する、プラズマディスプレイ基板用、電極および/またはブラックストライプの製造方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)