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1. (WO2006035496) PROCÉDÉ DE MESURE DE DOSAGE DE RAYONS &agr;
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/035496    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/014183
Date de publication : 06.04.2006 Date de dépôt international : 28.09.2004
CIB :
G01T 5/10 (2006.01)
Déposants : FUJITSU LIMITED [JP/JP]; 1-1, Kamikodanaka 4-chome Nakahara-ku, Kawasaki-shi Kanagawa 211-8588 (JP) (Tous Sauf US).
TAKASU, Ryozo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
FUKUDA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TAKASU, Ryozo; (JP).
FUKUDA, Hiroyuki; (JP)
Mandataire : KITANO, Yoshihito; Exceed Yotsuya 2nd Floor 9, Daikyo-cho Shinjuku-shi Tokyo 160-0015 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHOD FOR MEASURING &agr;-RAY DOSE RATE
(FR) PROCÉDÉ DE MESURE DE DOSAGE DE RAYONS &agr;
(JA) α線量率測定方法
Abrégé : front page image
(EN)A method for measuring &agr;-ray dose rate comprising a first step of leaving a stack of a solid track detector (12) and a sample (10) for a specified time, a second step of etching the solid track detector to form an etch pit (20) corresponding to the track of an &agr;-ray entering the solid track detector in the solid track detector, and a third step of determining the dose rate of the &agr;-rays emitted from the sample from the number of etch pits formed in the solid track detector and the leaving time. Since the sample and the solid track detector are left for a relatively long time and the dose rate of &agr;-ray is determined by dividing the number of etch pits by the leaving time, the influence of the background can be reduced by setting the leaving time longer. Consequently, the dose rate of &agr;-ray can be determined with extremely high precision.
(FR)L'invention porte sur un procédé de mesure de dosage de rayons &agr; comprenant une première phase consistant à laisser une pile de détecteur de piste solide (12) et un échantillon (10) pendant une durée spécifiée, une seconde phase d’attaque chimique du détecteur de piste solide pour former une piqûre d’attache chimique (20) correspondant à la piste d’un rayon &agr; pénétrant dans le détecteur de piste solide, et une troisième phase de détermination du dosage des rayons &agr; émis depuis l’échantillon à partir du nombre de piqûres d’attaque chimique formées dans le détecteur de piste solide et du temps de palier. Comme on laisse l’échantillon et le détecteur de piste solide sur une période relativement longue et que le dosage de rayons &agr; s’obtient en divisant le nombre de piqûres d’attaque chimique par le temps de palier, on peut réduire l’influence de l’arrière-plan en réglant le temps de palier sur une valeur plus grande. En conséquence, le dosage d’un rayon &agr; peut être déterminé avec une précision extrêmement grande.
(JA) 固体飛跡検出器12と試料10とを重ね合わせた状態で所定時間放置する第1のステップと、固体飛跡検出器をエッチングすることにより、固体飛跡検出器に入射したα線の飛跡に応じたエッチピット20を固体飛跡検出器に形成する第2のステップと、固体飛跡検出器に形成されたエッチピットの数と放置時間とに基づいて、試料から放出されたα線の線量率を求める第3のステップとを有している。試料と固体飛跡検出器とを比較的長時間放置しておき、エッチピットの数を放置時間で除算することによりα線の線量率を求めるため、放置時間を長く設定するほどバックグラウンドの影響を小さくすることができる。従って、極めて高精度にα線の線量率を求めることが可能となる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)