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1. (WO2006035403) DISPOSITIF DE NETTOYAGE ET PROCEDE DESTINE A UNE POINTE DE MICROSCOPE A EFFET TUNNEL (STM)
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/035403    N° de la demande internationale :    PCT/IB2005/053195
Date de publication : 06.04.2006 Date de dépôt international : 28.09.2005
CIB :
H01J 37/02 (2006.01), H01J 37/28 (2006.01)
Déposants : UNIVERSITA' DEGLI STUDI DI ROMA 'TOR VERGATA' [IT/IT]; Via Orazio Raimondo 18, I-00173 Rome (IT) (Tous Sauf US).
IANNILLI, Maurizio [IT/IT]; (IT) (US Seulement).
MOTTA, Nunzio [IT/IT]; (IT) (US Seulement).
PECCHI, Daniele [IT/IT]; (IT) (US Seulement).
SGARLATA, Anna [IT/IT]; (IT) (US Seulement)
Inventeurs : IANNILLI, Maurizio; (IT).
MOTTA, Nunzio; (IT).
PECCHI, Daniele; (IT).
SGARLATA, Anna; (IT)
Mandataire : LEONE, Mario; Società Italiana Brevetti S.p.A., Piazza di Pietra 39, I-00186 Rome (IT)
Données relatives à la priorité :
RM2004A000464 29.09.2004 IT
Titre (EN) CLEANING DEVICE AND PROCESS FOR SCANNING TUNNELING MICROSCOPY (STM) TIP
(FR) DISPOSITIF DE NETTOYAGE ET PROCEDE DESTINE A UNE POINTE DE MICROSCOPE A EFFET TUNNEL (STM)
Abrégé : front page image
(EN)The present invention is referred to a device for effectively cleaning tips of a scanning tunnelling microscope (STM) probe in ultra high vacuum comprising means for bombarding (11, 20, 21, 22) a tip (1) with an electron beam, to a microscope as above specified including the latter a cleaning process for tips of a scanning tunnelling microscope probe in ultra high vacuum comprising the steps of: transferring a tip (1) on an insulated housing system (6); approaching a conducting filament (20) to said tip; applying a predetermined current to said conducting filament (20); applying a predetermined voltage between said conducting filament (20) and said tip (1) to be cleaned for a predetermined time, whereby said tip (1) is subject to an electron flux.
(FR)L'invention concerne un dispositif destiné à nettoyer de manière efficace les pointes d'une sonde de microscope à effet tunnel (STM) en ultravide comprenant des moyens destinés à bombarder (11, 21, 22) une pointe (1) d'un faisceau électronique, sur un microscope tel que spécifié ci-dessus comprenant un procédé de nettoyage de pointes d'une sonde de microscope à effet tunnel en ultravide comprenant les étapes consistant: à transférer une pointe (1) sur un système de logement isolé (6); à approcher un filament conducteur (20) de cette pointe; à appliquer un courant prédéfini sur le filament conducteur (20); à appliquer une tension prédéfinie entre le filament conducteur (20) et la pointe (1) à nettoyer durant un temps prédéfini, la pointe (1) par soumission à un flux d'électrons.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : italien (IT)