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1. (WO2006035197) PROCEDE ET APPAREIL POUR REDUIRE UN EFFET PARIETAL DANS UN ENVIRONNEMENT DE FOND DE PUITS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/035197    N° de la demande internationale :    PCT/GB2005/003579
Date de publication : 06.04.2006 Date de dépôt international : 16.09.2005
CIB :
E21B 43/00 (2006.01), E21B 28/00 (2006.01)
Déposants : HALLIBURTON ENERGY SERVICES, INC. [US/US]; P.O. Box 1431, Duncan, OK 73533 (US) (Tous Sauf US).
SHELL INTERNATIONAL EXPLORATION AND PRODUCTION B.V. [NL/NL]; Kessler Park 1, Postbus 60, NL-2280 AB Rijswijk (NL) (Tous Sauf US).
BIRCHAK, James, R. [US/US]; (US) (US Seulement).
WONG, Sau-Wai [US/MY]; (US) (US Seulement).
ESTEP, James, W. [US/US]; (US) (US Seulement).
TRAINOR, William [US/US]; (US) (US Seulement).
HAN, Wei [US/CN]; (US) (US Seulement).
RITTER, David, W. [US/US]; (US) (US Seulement).
YOO, Kwang [US/US]; (US) (US Seulement).
VENDITTO, James, J. [US/US]; (US) (US Seulement).
SMITH, Harry, D., Jr. [US/US]; (US) (US Seulement).
VAN BATENBURG, Diederik [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
MESE, Ali [US/US]; (US) (US Seulement).
GROENENBOOM, Jeroen, J. [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
VAN DER BAS, Ferdinand [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
ZUIDERWIJK, Pedro [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
VAN DER SMAN, Peter [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
LEHMAN, Lyle, V. [US/US]; (US) (US Seulement).
WAIN, Cristopher, Paul [GB/GB]; (GB) (MW only)
Inventeurs : BIRCHAK, James, R.; (US).
WONG, Sau-Wai; (US).
ESTEP, James, W.; (US).
TRAINOR, William; (US).
HAN, Wei; (US).
RITTER, David, W.; (US).
YOO, Kwang; (US).
VENDITTO, James, J.; (US).
SMITH, Harry, D., Jr.; (US).
VAN BATENBURG, Diederik; (NL).
MESE, Ali; (US).
GROENENBOOM, Jeroen, J.; (NL).
VAN DER BAS, Ferdinand; (NL).
ZUIDERWIJK, Pedro; (NL).
VAN DER SMAN, Peter; (NL).
LEHMAN, Lyle, V.; (US)
Mandataire : WAIN, Christopher, Paul; A.A. Thornton & Co., 235 High Holborn, London WC1V 7LE (GB)
Données relatives à la priorité :
10/953,237 29.09.2004 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR REDUCING A SKIN EFFECT IN A DOWNHOLE ENVIRONMENT
(FR) PROCEDE ET APPAREIL POUR REDUIRE UN EFFET PARIETAL DANS UN ENVIRONNEMENT DE FOND DE PUITS
Abrégé : front page image
(EN)A method for reducing a skin effect in a downhole environment is provided, including the step of radiating vibrational waves at a wellbore wall such that the vibrational waves have at least one direction of greatest vibrational energy transfer directed toward the wall, thereby reducing the skin effect. An apparatus for reducing a skin effect in a downhole environment is also provided. The apparatus includes at least one vibrational wave source having at least one direction of greatest vibrational energy transfer, and a means for positioning the vibrational wave source proximate a wellbore wall.
(FR)La présente invention concerne un procédé pour réduire un effet pariétal dans un environnement de fond de puits comprenant une étape d'irradiation des ondes vibratoires sur une paroi du puits de forage, de sorte que ces ondes aient au moins une direction de transfert d'énergie vibratoire supérieur, dirigée vers la paroi, ce qui réduit l'effet pariétal. L'invention prévoit aussi un appareil pour réduire un effet pariétal dans un environnement de fond de puits. Celui-ci comprend au moins une source d'onde vibratoire, ayant au moins une direction avec transfert d'énergie vibratoire supérieur et un moyen pour placer la source d'onde vibratoire près d'une paroi du puits de forage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)