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1. (WO2006033834) UTILISATION AMELIOREE DE FAISCEAUX IONIQUES AU COURS DE L'IMPLANTATION D'IONS PAR BALAYAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/033834    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/031855
Date de publication : 30.03.2006 Date de dépôt international : 08.09.2005
CIB :
H01J 37/317 (2006.01)
Déposants : AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 108 Cherry Hill Drive, Beverly, MA 01915 (US) (Tous Sauf US).
GRAF, Michael [CA/US]; (US) (US Seulement).
RAY, Andrew [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : GRAF, Michael; (US).
RAY, Andrew; (US)
Données relatives à la priorité :
10/944,989 20.09.2004 US
Titre (EN) IMPROVED ION BEAM UTILIZATION DURING SCANNED ION IMPLANTATION
(FR) UTILISATION AMELIOREE DE FAISCEAUX IONIQUES AU COURS DE L'IMPLANTATION D'IONS PAR BALAYAGE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention is directed to implanting ions in a workpiece in a serial implantation process in a manner that produces a scan pattern that resembles the size, shape and/or other dimensional aspects of the workpiece. This improves efficiency and yield as an ion beam that the workpiece is oscillated through does not significantly 'overshoot' the workpiece. The scan pattern may be slightly larger than the workpiece, however, so that inertial effects associated with changes in direction, velocity and/or acceleration of the workpiece as the workpiece reverses direction in oscillating back and forth are accounted for within a small amount of 'overshoot'. This facilitates moving the workpiece through the ion beam at a relatively constant velocity which in turn facilitates substantially more uniform ion implantation.
(FR)La présente invention concerne l'implantation d'ions dans une pièce dans le cadre d'un processus d'implantation série d'une manière qui permet la production d'un motif de balayage qui de part sa taille, sa forme, et/ou ses dimensions, ressemble à la pièce. Cela permet d'améliorer l'efficacité et le rendement lorsqu'un faisceau d'ions à travers lequel la pièce est mise en oscillation, ne 'dépasse' pas significativement la pièce. Le motif de balayage peut cependant être légèrement plus grand que la pièce, de sorte que les effets d'inertie associés aux changements de direction, de vitesse et/ou d'accélération de la pièce lors des changements de direction entre les oscillations vers l'avant et vers l'arrière de la pièce, sont pris en compte pour une petite quantité de 'dépassement'. Cela facilite le déplacement de la pièce dans le faisceau ionique à une vitesse relativement constante, ce qui facilite ainsi l'obtention d'une implantation d'ions sensiblement plus uniforme.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)