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1. (WO2006032560) INTERFEROMETRE COMPRENANT UN SYSTEME DE MIROIRS POUR EFFECTUER DES MESURES SUR UN OBJET
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/032560    N° de la demande internationale :    PCT/EP2005/053573
Date de publication : 30.03.2006 Date de dépôt international : 22.07.2005
CIB :
G01B 9/02 (2006.01), G01B 11/06 (2006.01), G01N 21/95 (2006.01)
Déposants : ROBERT BOSCH GMBH [DE/DE]; Postfach 30 02 20, 70442 Stuttgart (DE) (Tous Sauf US).
STRÄHLE, Jochen [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : STRÄHLE, Jochen; (DE)
Représentant
commun :
ROBERT BOSCH GMBH; Postfach 30 02 20, 70442 Stuttgart (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2004 045 806.5 22.09.2004 DE
Titre (DE) INTERFEROMETER MIT EINER SPIEGELANORDNUNG ZUR VERMESSUNG EINES MESSOBJEKTES
(EN) INTERFEROMETER COMPRISING A MIRROR ASSEMBLY FOR MEASURING AN OBJECT TO BE MEASURED
(FR) INTERFEROMETRE COMPRENANT UN SYSTEME DE MIROIRS POUR EFFECTUER DES MESURES SUR UN OBJET
Abrégé : front page image
(DE)Es wird eine interferometrische Messvorrichtung (1) zur Vermessung eines Messobjektes (5), insbesondere zur Dickenmessung des Messobjektes (5), vorgeschlagen. Dabei ist ein Spezialobjektiv (45) mit einer Spiegelanordnung (40) vorgesehen, die aus mindestens einem ersten (60) und einem zweiten Ablenkspiegel (65) besteht und diese derart angeordnet sind, dass die auf den ersten (60) bzw. auf den zweiten Ablenkspiegel (65) einfallenden Objektstrahlen (25) auf eine erste (70) bzw. dazu parallele zweite Seite (75) des zu messenden Messobjektes (5) in einem ersten (80) bzw. zweiten zueinander antiparallelen Strahlengängen (85) gerichtet werden. Die Spiegelanordnung (40) weist zusätzlich mindestens einen ersten Positionsspiegel (70) zur Abbildung der Position des zu messenden Messobjektes (5) relativ zum ersten (60) und/oder zweiten Ablenkspiegel (65) auf.
(EN)The invention relates to an interferometric measuring device (1) for measuring an object to be measured (5), in particular for measuring the thickness of said object (5). The device is equipped with special optics (45) comprising a mirror assembly (40), which consists of at least one first (60) and one second deflection mirror (65). Said mirrors are arranged in such a way that the object rays (25) incident on the first (60) and second deflection mirrors (65) are directed onto the first (70) and second parallel faces (75) of the object to be measured (5) in first (80) and second anti-parallel beam paths (85). In addition, the mirror assembly (40) has at least one first positional mirror (70) for reproducing the position of the object to be measured (5) in relation to the first (60) and/or second deflection mirror (65).
(FR)La présente invention concerne un dispositif de mesure interférométrique (1) pour effectuer des mesures sur un objet (5), en particulier pour mesurer l'épaisseur d'un objet (5). Selon l'invention, un objectif spécial (45) comprend un système de miroirs (40) qui consiste en au moins un premier (60) et un second (65) miroir déflecteur, et ceux-ci sont disposés de sorte que les faisceaux objet (25) qui frappent le premier (60) ou le second (65) miroir déflecteur, sont dirigés sur un premier côté (70) de l'objet à mesurer (5) ou sur un second côté (75) de celui-ci, parallèle au premier côté, selon une première trajectoire de faisceau (80) ou une seconde trajectoire de faisceau (85) non parallèle à la première. Le système de miroirs (40) présente en outre au moins un premier miroir de positionnement (70) qui sert à représenter la position de l'objet à mesurer (5) par rapport au premier (60) et/ou au second (65) miroir déflecteur.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)