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1. (WO2006032494) PROCEDE ET DISPOSITIF DE FABRICATION DE MICROSTRUCTURES A GRANDE VITESSE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/032494    N° de la demande internationale :    PCT/EP2005/010249
Date de publication : 30.03.2006 Date de dépôt international : 20.09.2005
CIB :
B29C 33/38 (2006.01), B29C 33/40 (2006.01), B29C 59/04 (2006.01), B41F 19/08 (2006.01), B41M 3/14 (2006.01), B29C 33/42 (2006.01)
Déposants : SECURIS LIMITED [GB/GB]; Garrett House, 24 Windmill Road, Brentford,, Middlesex TW8 0QA (GB) (Tous Sauf US).
MATTHIESEN, Johannes [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : MATTHIESEN, Johannes; (DE)
Mandataire : WHITE, Nicholas; Rouse Patents, Windsor House, Cornwall Road, Harrogate HG1 2PW (GB)
Données relatives à la priorité :
0421165.2 23.09.2004 GB
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR HIGH SPEED MANUFACTURE OF MICROSTRUCTURES
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE FABRICATION DE MICROSTRUCTURES A GRANDE VITESSE
Abrégé : front page image
(EN)Surface relief holograms may be replicated rapidly and with accuracy on a web based printing unit using the technique of in-situ polymerization replication (ISPR). The printing cylinder surface has a printing layer with surface relief microstructure that is derived from a silicone elastomeric material preferably a two-pack silicone elastomer. The printing cylinder may be used at faster web speeds than conventional ISPR cylinders having microstructures manufactured with radiation cured media.
(FR)L'invention permet de reproduire rapidement et précisément des hologrammes à relief de surface sur une unité d'impression à bande continue, à l'aide de la technique dite de polymérisation in situ (ISPR). La surface du cylindre d'impression comporte une couche d'impression présentant une microstructure à relief de surface obtenue à partir d'une matière élastomère siliconée, de préférence un élastomère siliconé deux composants. Le cylindre d'impression peut être utilisé à des vitesses de bande supérieures à celle de cylindres ISPR classiques comportant des microstructures formées à l'aide de supports traités par rayonnement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)