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1. (WO2006031956) APPAREIL DE TRAITEMENT COMPRENANT PLUSIEURS MODULES DE TRAITEMENT DE PLAQUETTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/031956    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/032902
Date de publication : 23.03.2006 Date de dépôt international : 13.09.2005
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    13.07.2006    
CIB :
H01L 21/00 (2006.01)
Déposants : GENUS, INC. [US/US]; 1139 Karlstad Drive, Sunnyvale, CA 94089 (US) (Tous Sauf US).
PUCHACZ, Jerzy [US/US]; (US) (US Seulement).
RAMANATHAN, Sasangan [IN/US]; (US) (US Seulement).
REYES, Manolito, Q. [US/US]; (US) (US Seulement).
SEIDEL, Thomas, E. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : PUCHACZ, Jerzy; (US).
RAMANATHAN, Sasangan; (US).
REYES, Manolito, Q.; (US).
SEIDEL, Thomas, E.; (US)
Mandataire : FAHMI, Tarek, N.; Sonnenschein Nath & Rosenthal LLP, P.O. Box 061080, Wacker Drive Station, Sears Tower, Chicago, IL 60606-1080 (US)
Données relatives à la priorité :
60/609,598 13.09.2004 US
11/224,767 12.09.2005 US
Titre (EN) MULTI-SINGLE WAFER PROCESSING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT COMPRENANT PLUSIEURS MODULES DE TRAITEMENT DE PLAQUETTE
Abrégé : front page image
(EN)A wafer processing apparatus includes one or more processing modules, each having multiple, distinct, single-wafer processing reactors configured for semi-independent ALD and/or CVD film deposition therein; a robotic central wafer handler configured to provide wafers to and accept wafers from each of said wafer processing modules; and a single-wafer loading and unloading mechanism that includes a loading and unloading port and a mini-environment coupling the loading and unloading port to the robotic central wafer handler. The wafer processing reactors may be arranged (I) along axes of a Cartesian coordinate system, or (I) in quadrants defined by said axes, one axis being parallel to a wafer input plane of the at least one of the process modules to which the single-wafer processing reactors belong. Each processing module can include up to four single-wafer processing reactors, each with an independent gas distribution module.
(FR)L'invention concerne un appareil de traitement de plaquette qui comprend un ou plusieurs modules de traitement, chacun présentant plusieurs réacteurs de traitement de plaquette différents conçus pour un dépôt de film ALD (dépôt par couche atomique) et/ou CVD (dépôt en phase vapeur) semi-indépendant; un manipulateur de plaquette central robotisé conçu pour fournir des plaquettes et accepter des plaquettes provenant de chacun des modules de traitement de plaquette; et un mécanisme de chargement et de déchargement qui comprend un port de chargement et de déchargement et un mini-environnement reliant le port de chargement et de déchargement au manipulateur de plaquette central robotisé. Les réacteurs de traitement de plaquette peuvent être disposés (i) le long d'axes d'un système de coordonnées cartésiennes, ou (ii) dans des quadrants définis par lesdits axes, un axe étant parallèle à un plan d'entrée de plaquette du ou des modules de traitement auxquels appartiennent les réacteurs de traitement de plaquette. Chaque module de traitement de plaquette peut comporter jusqu'à quatre réacteurs de traitement de plaquette, chacun comprenant un module de distribution de gaz indépendant.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)