WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2006031733) FILTRE INTERFERENTIEL A COUCHE MINCE ET PROCEDE « BOOTSTRAP » DE CONTROLE DU PROCESSUS DE DEPOT EN COUCHE MINCE DE FILTRE INTERFERENTIEL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/031733    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/032420
Date de publication : 23.03.2006 Date de dépôt international : 13.09.2005
CIB :
G01B 11/02 (2006.01)
Déposants : THE UNIVERSITY OF SOUTH CAROLINA [US/US]; 109 OSBORNE ADMINISTRATION, COLUMBIA, SC 29208 (US) (Tous Sauf US).
MYRICK, MICHAEL, L. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : MYRICK, MICHAEL, L.; (US)
Mandataire : DORITY & MANNING, P.A.; 55 BEATTIE PLACE, STE 1600, GREENVILLE, South Carolina 29601 (US)
Données relatives à la priorité :
60/609,406 13.09.2004 US
Titre (EN) THIN FILM INTERFERENCE FILTER AND BOOTSTRAP METHOD FOR INTERFERENCE FILTER THIN FILM DEPOSITION PROCESS CONTROL
(FR) FILTRE INTERFERENTIEL A COUCHE MINCE ET PROCEDE « BOOTSTRAP » DE CONTROLE DU PROCESSUS DE DEPOT EN COUCHE MINCE DE FILTRE INTERFERENTIEL
Abrégé : front page image
(EN)A thin film interference filter system includes a plurality of stacked films having a determined reflectance; a modeled monitor curve; and a topmost layer configured to exhibit a wavelength corresponding to one of the determined reflectance or the modeled monitor curve. The topmost layer is placed on the plurality of stacked films and can be a low-index film such as silica or a high index film such as niobia.
(FR)L'invention porte sur un système de filtre interférentiel à couche mince comprenant une pluralité de couches minces empilées possédant une réflectance déterminée, une courbe de contrôle modélisée, et une couche supérieure formée pour produire une longueur d'onde correspondant à la réflectance déterminée et/ou à la courbe de contrôle modélisée. La couche supérieure est placée sur la pluralité de couches empilées et peut être une couche à indice bas du type silice ou une couche à indice élevé du type niobium.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)