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1. (WO2006031455) TECHNIQUE DE LITHOGRAPHIE DANS LAQUELLE SONT UTILISES DES MOULES EN SILICONE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2006/031455 N° de la demande internationale : PCT/US2005/031150
Date de publication : 23.03.2006 Date de dépôt international : 31.08.2005
CIB :
G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
Déposants :
BAHADUR, Maneesh [US/US]; US (UsOnly)
CHEN, Wei [US/US]; US (UsOnly)
ALBAUGH, John [US/US]; US (UsOnly)
HARKNESS, Brian [CA/US]; US (UsOnly)
TONGE, James [US/US]; US (UsOnly)
DOW CORNING CORPORATION [US/US]; 2200 West Salzburg Road Midland, MI 48686-0994, US (AllExceptUS)
Inventeurs :
BAHADUR, Maneesh; US
CHEN, Wei; US
ALBAUGH, John; US
HARKNESS, Brian; US
TONGE, James; US
Mandataire :
MILCO, Larry, A.; Patent Department-Mail CO1232 2200 West Salzburg Road Midland, MI 48686-0994, US
Données relatives à la priorité :
60/609,42513.09.2004US
Titre (EN) LITHOGRAPHY TECHNIQUE USING SILICONE MOLDS
(FR) TECHNIQUE DE LITHOGRAPHIE DANS LAQUELLE SONT UTILISES DES MOULES EN SILICONE
Abrégé :
(EN) A method includes the steps of: A) filling a silicone mold having a patterned surface with a curable (meth)acrylate formulation, B) curing the curable (meth)acrylate formulation to form a patterned feature, C) separating the silicone mold and the patterned feature, optionally D) etching the patterned feature, and optionally E) repeating steps A) to D) reusing the silicone mold. The curable (meth)acrylate formulation contains a fluorofunctional (meth)acrylate, a (meth)acrylate, and a photoinitiator.
(FR) L'invention concerne un procédé consistant : A) à remplir un moule de silicone possédant une surface à motif avec une préparation durcissable de (méth)acrylate ; B) à durcir la préparation durcissable de (méth)acrylate pour former une caractéristique à motif ; C) à séparer le moule de silicone et la caractéristique à motif ; D) à éventuellement graver la caractéristique à motif ; et E) à éventuellement répéter les étapes A) à D) en réutilisant le moule de silicone. La préparation durcissable de (méth)acrylate contient un (méth)acrylate fonctionnel à base de fluor, un (méth)acrylate, ainsi qu'un photoamorceur.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)