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1. (WO2006031286) TAMPON LUSTREUR A FLEXIBILITE AMELIOREE ET FACE DE POLISSAGE REMPLAÇABLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/031286    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/024557
Date de publication : 23.03.2006 Date de dépôt international : 12.07.2005
CIB :
B24D 13/14 (2006.01), B24D 9/08 (2006.01)
Déposants : LAKE COUNTRY MANUFACTURING, INC. [US/US]; P.O. Box 559, Hartland, WI 53029 (US) (Tous Sauf US).
MCLAIN, Scott, S. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : MCLAIN, Scott, S.; (US)
Mandataire : JOCHMAN, Joseph, J.; Andrus, Sceales, Starke & Sawall, LLP, 100 East Wisconsin Avenue, Suite 1100, Milwaukee, WI 53202 (US)
Données relatives à la priorité :
10/939,174 10.09.2004 US
Titre (EN) BUFFING PAD WITH GRADED FLEXIBILITY AND REPLACEABLE WORK FACE
(FR) TAMPON LUSTREUR A FLEXIBILITE AMELIOREE ET FACE DE POLISSAGE REMPLAÇABLE
Abrégé : front page image
(EN)A rotary buffing and finishing pad assembly includes a polymeric foam cushioning layer that has a graded compression load deflection which is interposed between a backing plate and a relatively thin performance layer that is removal y attached to the foam cushioning layer. Alternate constructions for providing a graded cushioning effect are also disclosed.
(FR)L'invention porte sur un ensemble rotatif de tampon de lustrage et de finition comprenant une couche d'amortissement de mousse polymère à flexion progressive de la charge de compression qui est placée entre une plaque arrière et une couche relativement mince fixée amovible à la couche d'amortissement en mousse. L'invention porte également sur d'autres structures permettant d'obtenir un effet d'amortissement amélioré.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)