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1. (WO2006030848) FILM OPTIQUE MINCE DE MGF2 CONTENANT UN LIANT D'OXYDE DE SILICIUM AMORPHE, DISPOSITIF OPTIQUE LE CONTENANT ET PROCEDE DE PRODUCTION DU FILM OPTIQUE MINCE DE MGF2
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/030848    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/017015
Date de publication : 23.03.2006 Date de dépôt international : 15.09.2005
CIB :
G02B 1/11 (2006.01), C03C 17/22 (2006.01), C03C 17/25 (2006.01), C01F 5/28 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
ISHIZAWA, Hitoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NIISAKA, Shunsuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MURATA, Tsuyoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ISHIZAWA, Hitoshi; (JP).
NIISAKA, Shunsuke; (JP).
MURATA, Tsuyoshi; (JP)
Mandataire : KAWAKITA, Kijuro; YKB Mike Garden 5-4, Shinjuku 1-chome Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-269719 16.09.2004 JP
2004-373158 24.12.2004 JP
Titre (EN) MgF2 OPTICAL THIN FILM CONTAINING AMORPHOUS SILICON OXIDE BINDER, OPTICAL DEVICE HAVING SAME, AND METHOD FOR PRODUCING SUCH MgF2 OPTICAL THIN FILM
(FR) FILM OPTIQUE MINCE DE MGF2 CONTENANT UN LIANT D'OXYDE DE SILICIUM AMORPHE, DISPOSITIF OPTIQUE LE CONTENANT ET PROCEDE DE PRODUCTION DU FILM OPTIQUE MINCE DE MGF2
(JA) 非晶質酸化珪素バインダを有するMgF2光学薄膜、及びそれを備える光学素子、並びにそのMgF2光学薄膜の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)An MgF2 optical thin film (100) is formed on an optical surface of a base (10). The MgF2 optical thin film (100) comprises MgF2 particles (12) and an amorphous silicon oxide binder (13) which exists on the surfaces of the MgF2 particles and in the spaces between the MgF2 particles. Due to this amorphous silicon oxide binder (13), the optical thin film (100) can have high mechanical strength and high adhesion to the base (10), while having excellent environment resistance and a lower refractive index.
(FR)Cette invention concerne un film optique mince de MgF2 (100) formé sur une surface optique d'une base (10). Le film optique mince de MgF2 (100) comprend des particules de MgF2 (12) et un liant d'oxyde de silicium amorphe (13), lequel se trouve sur les surfaces des particules de MgF2 et dans les espaces compris entre les particules de MgF2. Grâce à ce liant d'oxyde de silicium amorphe (13), le film optique mince (100) peut présenter une forte résistance mécanique et une forte adhérence à la base (10), ainsi qu'une excellente résistance à l'environnement et un indice de réfraction inférieur.
(JA) MgF光学薄膜100は、基材10の光学面に形成される。MgF光学薄膜は、MgF微粒子12と、MgF微粒子の表面及びMgF微粒子間に存在する非晶質酸化珪素系バインダ13とを備える。非晶質酸化珪素系バインダ13により光学薄膜100は、機械的強度及び基材10との付着力が高く、耐環境性に優れ、より低い屈折率を有することができる。  
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)