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1. (WO2006030641) COMPOSITION DE FABRICATION DE FILM ANTIREFLET ET PROCEDE DE FABRICATION DE CABLAGE UTILISANT LADITE COMPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/030641    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/015907
Date de publication : 23.03.2006 Date de dépôt international : 31.08.2005
CIB :
G03F 7/11 (2006.01), G03F 7/42 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), C08L 83/04 (2006.01)
Déposants : TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (Tous Sauf US).
TANAKA, Takeshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAKAMOTO, Yoshinori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAKAHAMA, Masaru [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TANAKA, Takeshi; (JP).
SAKAMOTO, Yoshinori; (JP).
TAKAHAMA, Masaru; (JP)
Mandataire : TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku Tokyo 104-8453 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-269705 16.09.2004 JP
Titre (EN) COMPOSITION FOR FORMING ANTIREFLECTIVE FILM AND WIRING FORMING METHOD USING SAME
(FR) COMPOSITION DE FABRICATION DE FILM ANTIREFLET ET PROCEDE DE FABRICATION DE CABLAGE UTILISANT LADITE COMPOSITION
(JA) 反射防止膜形成用組成物およびこれを用いた配線形成方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is an antireflective film-forming material which enables to obtain a large etching rate difference between a resist pattern and an antireflective film. Specifically disclosed is a composition for forming antireflective films which contains a siloxane polymer (A) containing a light absorptive compound group.
(FR)L’invention porte sur un matériau de formation de film antireflet permettant d’obtenir une grande différence de vitesse d’attaque chimique entre un motif de résist et un film antireflet. L’invention porte spécialement sur une composition de fabrication de films antireflets contenant un polymère siloxane (A) contenant un groupe composé absorbant la lumière.
(JA)  レジストパターンと反射防止膜とのエッチングレートの差を大きくできる反射防止膜形成用材料を提供する。  この反射防止膜形成用組成物は、(A)光吸収化合物基を含有するシロキサンポリマーを含む。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)