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1. (WO2006030625) COMPOSITION VULCANISABLE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UNE FINE STRUCTURE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/030625    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/015666
Date de publication : 23.03.2006 Date de dépôt international : 29.08.2005
CIB :
B29C 59/02 (2006.01), C08F 2/50 (2006.01), C08F 4/32 (2006.01), C08F 14/18 (2006.01), C08F 20/22 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), B29K 27/00 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-8405 (JP) (Tous Sauf US).
KAWAGUCHI, Yasuhide [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ASAKAWA, Akihiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ISHIZEKI, Kenji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ERIGUCHI, Takeshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KASHIWAGI, Kimiaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIRAKAWA, Daisuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KAWAGUCHI, Yasuhide; (JP).
ASAKAWA, Akihiko; (JP).
ISHIZEKI, Kenji; (JP).
ERIGUCHI, Takeshi; (JP).
KASHIWAGI, Kimiaki; (JP).
SHIRAKAWA, Daisuke; (JP)
Mandataire : SENMYO, Kenji; Torimoto Kogyo Bldg. 38, Kanda-Higashimatsushitacho Chiyoda-ku, Tokyo 101-0042 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-269803 16.09.2004 JP
Titre (EN) CURABLE COMPOSITION, PROCESS FOR PRODUCING FINE STRUCTURE, AND METHOD OF FORMING PATTERN
(FR) COMPOSITION VULCANISABLE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UNE FINE STRUCTURE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
(JA) 硬化性組成物、微細構造体の製造方法およびパターンの形成方法
Abrégé : front page image
(EN)A curable composition; a process for producing a fine structure; and a method of forming a pattern. The curable composition is a composition for use with a mold having a pattern reverse to a fine pattern. The composition is sandwiched between the reversal pattern side of the mold and a surface of a substrate, pressed, and then cured to form a fine pattern of a cured object on the substrate surface. The composition comprises as essential ingredients a fluoromonomer (A) and a fluorinated polymerization initiator (B). The process for fine structure production and the method of pattern formation comprise, in the following order, a step in which the curable composition is sandwiched between that side of a mold which has a pattern reverse to a fine pattern and a surface of a substrate and then pressed, a step in which the curable composition is cured to form a cured object, and a step in which the cured object is released from the mold.
(FR)L’invention porte sur une composition vulcanisable ; un procédé de fabrication d’une fine structure ; et un procédé de formation de motif. La composition vulcanisable est une composition devant s’utiliser avec un moule dont le motif est l’inverse d’un fin motif. La composition est prise en sandwich entre le côté de motif inversé du moule et une surface de substrat, comprimée, et ensuite vulcanisée pour constituer un fin motif d’un objet vulcanisé à la surface du substrat. La composition comprend comme ingrédients essentiels un monomère fluoré (A) et un initiateur de polymérisation fluoré (B). Le procédé de fabrication de fine structure et le procédé de formation de motif comprennent, dans l’ordre suivant, une phase dans laquelle la composition vulcanisable est prise en sandwich entre ce côté de moule dont le motif est l’inverse d’un fin motif et une surface de substrat, avant compression, une phase dans laquelle la composition vulcanisable est cuite pour constituer un objet vulcanisé, et une phase dans laquelle l’objet vulcanisé est libéré du moule.
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)