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1. (WO2006029858) LITHOGRAPHIE SANS MASQUE OPTIQUE A DECALAGE DE PHASE METTANT EN OEUVRE DES CIRCUITS INTEGRES SPECIFIQUES A DES NOEUDS DE 65 ET 45 NM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/029858    N° de la demande internationale :    PCT/EP2005/009921
Date de publication : 23.03.2006 Date de dépôt international : 15.09.2005
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : MICRONIC LASER SYSTEMS AB [SE/SE]; IPR & Legal department, Nytorpsvägen 9, S-183 03 TÄBY (SE) (Tous Sauf US).
SANDSTRÖM, Torbjörn [SE/SE]; (SE) (US Seulement).
LJUNGBLAD, Ulric [SE/SE]; (SE) (US Seulement)
Inventeurs : SANDSTRÖM, Torbjörn; (SE).
LJUNGBLAD, Ulric; (SE)
Mandataire : NORDKVIST, Johan; IPR & Legal department, Nytorpsvägen 9, S-183 03 TÄBY (SE)
Données relatives à la priorité :
60/610,012 15.09.2004 US
60/615,788 04.10.2004 US
Titre (EN) PHASE-SHIFTING OPTICAL MASKLESS LITHOGRAPHY ENABLING ASICS AT THE 65 AND 45 NM NODES
(FR) LITHOGRAPHIE SANS MASQUE OPTIQUE A DECALAGE DE PHASE METTANT EN OEUVRE DES CIRCUITS INTEGRES SPECIFIQUES A DES NOEUDS DE 65 ET 45 NM
Abrégé : front page image
(EN)Phase stepped and paired piston SLM configurations are described, with attention to rasterization and image stability. In contrast to attenuated phase-shift reticle performance of simple titling mirror SLMs, these configuration have phase shifting capabilities emulating a hard phase shift reticle and beyond. To use a straight-forward rasterization architecture where individual pixels are determined by the local pattern data, the SLM is operated so that the complex amplitude created by a mirror or mirror pair is confined to the real axis. The tilting phase-step mirror SLM gives a new set of rules for lithography: no penalty for phase shift over binary, no penalty for OPC verses non-OPC pattern, seamless pattern decompositions, optimal tones for each pattern, etc. This gives performance and flexibility never seen before.
(FR)L'invention concerne des configurations SLM à piston double et à phases échelonnées, qui permet le tramage et la stabilité d'image. Contrairement à la performance réticulaire de décalage de phase atténuée des SLM à miroir basculant simple, ces configurations présentent des capacités de décalage de phase qui émulent une réticule à décalage de phase dure et au-delà. L'utilisation d'une architecture de tramage explicite dans laquelle des pixels individuels sont déterminés par les données de motif local, le SLM étant actionné de sorte que l'amplitude du complexe créée par un miroir ou une paire de miroirs soit confinée à son axe réel. Le SLM à miroir à étape de phase basculante donne un nouvel ensemble de règles pour la lithographie: pas de pénalité pour le décalage de phase sur un élément binaire, pas de pénalité pour un motif OPC versus non OPC, décompositions de motifs homogènes, tons optimaux pour chaque motif, etc.. Ceci offre une performance et une flexibilité jamais vues auparavant.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)