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1. (WO2006029796) DISPOSITIF D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/029796    N° de la demande internationale :    PCT/EP2005/009804
Date de publication : 23.03.2006 Date de dépôt international : 13.09.2005
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2, D-73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
BROTSACK, Markus [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
DEGÜNTHER, Markus [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
ULRICH, Wilhelm [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WIETZORREK, Joachim [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WANGLER, Johannes [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
FELDMANN, Heiko [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
ZEILER, Andreas [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : BROTSACK, Markus; (DE).
DEGÜNTHER, Markus; (DE).
ULRICH, Wilhelm; (DE).
WIETZORREK, Joachim; (DE).
WANGLER, Johannes; (DE).
FELDMANN, Heiko; (DE).
ZEILER, Andreas; (DE)
Mandataire : SCHWANHÄUSSER, Gernot; Ostertag & Partner, Eibenweg 10, 70597 Stuttgart (DE)
Données relatives à la priorité :
60/609,398 13.09.2004 US
60/609,397 13.09.2004 US
60/684,888 26.05.2005 US
Titre (EN) MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)An illumination system (12) for a microlithographic pro­jection exposure apparatus (10) comprises a masking de­vice (36) and a masking objective (38; 138; 238) which projects the masking device (36) onto an image plane (18). The illumination system further includes an optical correction element (46; 34'; 146a, 146b; 242; 242a, 242b, 242c) having a surface (48; 44; 44'; 148a, 148b) that is either aspherically shaped or supports diffractive struc­tures that have at least substantially the effect of an aspherical surface. This surface is arranged at least ap­proximately in a field plane (40; 140) which precedes the image plane (18) of the masking objective The aspheri­cally acting surface is designed such that a principal ray distribution generated by the illumination system (12; 112; 212) in the image plane matches a principal ray distribution required by a projection objective (16).
(FR)L'invention concerne un système d'éclairage (12) pour un dispositif d'exposition par projection microlitographique (10) qui comprend un masqueur (36) ainsi qu'un objectif de masquage (38; 138; 238) qui projette le masqueur (36) sur un plan d'image (18). Le système d'éclairage comprend également un élément de correction optique (46; 34'; 146a, 146b; 242; 242a, 242b, 242c) doté d'une surface (48; 44; 44'; 148a, 148b) qui est soit asphérique soit comporte des structures diffractives qui présentent au moins sensiblement l'aspect d'une surface asphérique. Cette surface est disposée au moins approximativement dans le plan de champ (40; 140) qui précède le plan d'image (18) de l'objectif de masquage. La surface asphérique est conçue de façon à ce que la distribution des rayons produite par le système d'éclairage (12; 112; 212) dans le plan d'image coïncide avec la distribution de rayons principale requise par l'objectif de projection (16).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)