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1. (WO2006028669) UTILISATION D'UN DETECTEUR DE PLASMON INTEGRE POUR MESURER LA RUGOSITE D'UN DEPOT METALLIQUE SUR UNE SURFACE SEMI-CONDUCTRICE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/028669    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/029174
Date de publication : 16.03.2006 Date de dépôt international : 16.08.2005
CIB :
H01L 49/00 (2006.01)
Déposants : WEI, David, T. [US/US]; (US).
SCHERER, Axel [DE/US]; (US)
Inventeurs : WEI, David, T.; (US).
SCHERER, Axel; (US)
Mandataire : POPA, Robert; LADAS & PARRY LLP, 5670 Wilshire Boulevard, Suite 2100, Los Angeles, California 90036-5679 (US)
Données relatives à la priorité :
60/602,117 17.08.2004 US
60/602,061 17.08.2004 US
Titre (EN) UTILIZING AN INTEGRATED PLASMON DETECTOR TO MEASURE A METAL DEPOSIT ROUGHNESS ON A SEMICONDUCTOR SURFACE
(FR) UTILISATION D'UN DETECTEUR DE PLASMON INTEGRE POUR MESURER LA RUGOSITE D'UN DEPOT METALLIQUE SUR UNE SURFACE SEMI-CONDUCTRICE
Abrégé : front page image
(EN)A method for monitoring the surface roughness of a metal, comprises impinging a laser beam onto the surface of a metal layer to induce the formation of a plasmon therein, and monitoring a current of decay electrons emitted by the plasmon.
(FR)L'invention concerne une méthode pour surveiller la rugosité de surface d'un métal. Cette méthode consiste à diriger un faisceau laser sur la surface d'une couche métallique pour induire la formation d'un plasmon dans cette surface et pour surveiller un courant d'électrons en désintégration émis par le plasmon.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)