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1. (WO2006028060) MATERIAU DE FORMATION DE MOTIF, ET DISPOSITIF DE FORMATION DE MOTIF ET PROCEDE DE FORMATION DE MOTIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/028060    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/016264
Date de publication : 16.03.2006 Date de dépôt international : 05.09.2005
CIB :
G03F 7/11 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP) (Tous Sauf US).
TAKASHIMA, Masanobu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SERIZAWA, Shinichiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TAKASHIMA, Masanobu; (JP).
SERIZAWA, Shinichiro; (JP)
Mandataire : HIROTA, Koichi; HIROTA, NAGARE & ASSOCIATES 4th Floor, Shinjuku TR Bldg. 2-2-13, Yoyogi, Shibuya-ku Tokyo 1510053 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-258877 06.09.2004 JP
Titre (EN) PATTERN FORMING MATERIAL, AND PATTERN FORMING DEVICE AND PATTERN FORMING METHOD
(FR) MATERIAU DE FORMATION DE MOTIF, ET DISPOSITIF DE FORMATION DE MOTIF ET PROCEDE DE FORMATION DE MOTIF
(JA) パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)A pattern forming material capable of being prevented from the occurrences of wrinkles and static electricity during a process of being laid on a base, and forming a very fine pattern; and a pattern forming device provided with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material. A pattern forming material characterized by having a photosensitive layer and a protection film formed on a support in at least in this order, and 50-1000 pieces/m2 of fish-eyes that exist in this protection film, have an area of at least 2000 μm2, and are 1-7 μm high from the film surface; and a pattern forming device provided with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material for exposing.
(FR)L'invention concerne: un matériau de formation de motif capable de ne pas subir l’occurrence de rides et d'électricité statique lors d'un processus de dépôt sur une base, et de former un motif très fin; un dispositif de formation de motif fourni avec le matériau de formation de motif et un procédé de formation de motif utilisant le matériau de formation de motif ; un matériau de formation de motif caractérisé en ce qu’il possède une couche photosensible et un film de protection formés sur un support au moins dans cet ordre, de 50 à 1000 pièces/m2 d'œil de poisson qui existent dans ce film de protection ayant une surface d'au moins 2000 µm2, et une hauteur de 1 à 7 µm à partir de la surface du film; et enfin un dispositif de formation de motif fourni avec le matériau de formation de motif et un procédé de formation de motif utilisant le matériau de formation de motif pour l’exposition.
(JA) 基体への積層工程におけるシワの発生や静電気の発生が抑制され、かつ、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置、及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。  このため、支持体上に感光層と保護フィルムとを少なくともこの順に有し、該保護フィルム中に存在する面積が2000μm以上、かつ、フィルム表面からの高さが1~7μmのフィッシュアイの個数が50~1000個/mであることを特徴とするパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置、及び該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)