WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2006027935) COMPOSÉ D’ORGANOSILANE CONTENANT UNE CHAÎNE LATÉRALE, TRANSISTOR À COUCHES MINCES ET LEUR PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/027935    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/014847
Date de publication : 16.03.2006 Date de dépôt international : 12.08.2005
CIB :
C07F 7/12 (2006.01), C07F 7/18 (2006.01), H01B 1/12 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (Tous Sauf US).
NAKAGAWA, Masatoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HANATO, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAMURA, Toshihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NAKAGAWA, Masatoshi; (JP).
HANATO, Hiroyuki; (JP).
TAMURA, Toshihiro; (JP)
Mandataire : NOGAWA, Shintaro; Nogawa Patent Office Minamimorimachi Park Bldg. 1-3, Nishitenma 5-chome, Kita-ku, Osaka-shi Osaka 5300047 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-243974 24.08.2004 JP
2004-243965 24.08.2004 JP
Titre (EN) SIDE-CHAIN-CONTAINING ORGANOSILANE COMPOUND, ORGANIC THIN-FILM TRANSISTOR, AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) COMPOSÉ D’ORGANOSILANE CONTENANT UNE CHAÎNE LATÉRALE, TRANSISTOR À COUCHES MINCES ET LEUR PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 側鎖含有型有機シラン化合物、有機薄膜トランジスタ及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A side-chain-containing organosilane compound represented by the formula (I): R-SiX1X2X3 (wherein R is a &pgr;-electron-conjugated organic residue comprising a unit which is a group derived from a monocyclic aromatic hydrocarbon, a unit which is a group derived from a monocyclic heterocyclic compound, and 3 to 10 units of these kinds bonded to each other, or is an organic residue of a fused polycyclic compound made up of 2 to 10 five- or six-membered rings, the organic residues each having at least one side chain; and X1, X2, and X3 are the same or different and each is a group which gives a hydroxy group upon hydrolysis).
(FR)La présente invention concerne un composé d’organosilane contenant une chaîne latérale représenté par la formule (I) : R-SiX1X2X3 (où R représente un résidu organique conjugué à électron &pgr; comprenant une unité qui est un groupe dérivé d’un hydrocarbure aromatique monocyclique, une unité qui est un groupe dérivé d’un composé hétérocyclique monocyclique, et de 3 à 10 unités de ces types liées les unes aux autres, ou est un résidu organique d’un composé polycyclique fondu composé de 2 à 10 cycles à cinq ou six chaînons, les résidus organiques ayant chacun au moins une chaîne latérale ; et X1, X2 et X3 sont identiques ou différents et chacun représente un groupe qui donne un groupe hydroxy lors d’une hydrolyse).
(JA) 式 R-SiX123   (I) (式中、Rは、単環の芳香族炭化水素に由来する基であるユニット、単環の複素環化合物に由来する基であるユニット、及びこれら両ユニットが3~10個結合したπ電子共役系の有機残基又は5員環あるいは6員環が2~10縮合した縮合多環化合物の有機残基であり、少なくとも1つ以上の側鎖を有しており、X1、X2及びX3は、同一又は異なって、加水分解により水酸基を与える基である)で表される側鎖含有型有機シラン化合物。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)