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1. (WO2006026214) MESURE DE DEPLACEMENTS INFERIEURS A LA LONGUEUR D'ONDES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/026214    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/029703
Date de publication : 09.03.2006 Date de dépôt international : 19.08.2005
CIB :
G06T 7/00 (2006.01), G01B 11/00 (2006.01), G01B 21/00 (2006.01), G01D 5/26 (2006.01), G05D 1/02 (2006.01)
Déposants : HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY L.P. [US/US]; 20555 S.H. 249, Houston, TX 77070 (US) (Tous Sauf US).
GAO, Jun [CN/US]; (US) (US Seulement).
PICCIOTTO, Carl E. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : GAO, Jun; (US).
PICCIOTTO, Carl E.; (US)
Mandataire : HEMINGER, Susan E.; HEWLETT-PACKARD COMPANY, IP ADMINISTRATION, P.O. Box 272400, Ft. Collins, CO 80527-2400 (US)
Données relatives à la priorité :
10/931,647 31.08.2004 US
Titre (EN) MEASURING SUB-WAVELENGTH DISPLACEMENTS
(FR) MESURE DE DEPLACEMENTS INFERIEURS A LA LONGUEUR D'ONDES
Abrégé : front page image
(EN)Measurement systems (100) and methods (300) extend the use of optical navigation to measure displacements smaller than a wavelength of the light used to capture images of an object (110) measured. Nanometer-scale movements can thus be measured, for example, in equipment used for manufacture of integrated circuits or nanometer scale devices.
(FR)La présente invention concerne des systèmes de mesure (100) et des procédés (300) permettant d'étendre l'utilisation de la navigation optique à la mesure de déplacements inférieurs à une longueur d'ondes de la lumière utilisée pour prendre l'image d'un objet (110) mesuré. L'invention permet ainsi de mesurer des mouvements de l'ordre du nanomètre, notamment dans des équipements utilisés pour la fabrication de circuits intégrés ou de dispositifs nanométriques.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)