WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2006025944) PROCEDE ET SYSTEME POUR GRAVER UN EMPILEMENT DE GRILLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/025944    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/023943
Date de publication : 09.03.2006 Date de dépôt international : 30.06.2005
CIB :
H01L 21/311 (2006.01), H01L 21/3213 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Mianto-ku, Tokyo 107 (JP) (Tous Sauf US).
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION [US/US]; New Orchard Road, Armonk, NY 10504 (US) (Tous Sauf US).
XIA, Annie, Y. [US/US]; (US) (US Seulement).
MOCHIKI, Hiromasa [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MAHOROWALA, Arpan, P. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : XIA, Annie, Y.; (US).
MOCHIKI, Hiromasa; (JP).
MAHOROWALA, Arpan, P.; (US)
Mandataire : KARCESKI, Jeffrey, D.; Pillsbury Winthrop Shaw Pittman LLP, P.O. Box 10500, McLean, VA 22102 (US)
Données relatives à la priorité :
10/926,404 26.08.2004 US
Titre (EN) METHOD AND SYSTEM FOR ETCHING A GATE STACK
(FR) PROCEDE ET SYSTEME POUR GRAVER UN EMPILEMENT DE GRILLE
Abrégé : front page image
(EN)A method and system is described for etching a tunable etch resistant anti-reflective (TERA) coating. The TERA coating can be utilized, for example, as a hard mask, or as an anti-reflective coating for complementing a lithographic structure. The TERA coating can include a structural formula R:C:H:X, wherein R is selected from the group consisting of Si, Ge, B, Sn, Fe, Ti, and combinations thereof, and wherein X is not present or is selected from the group consisting of one or more of O, N, S, and F. During the formation of a structure in a film stack, a pattern is transferred to the TERA coating using dry plasma etching having a SF6-based etch chemistry.
(FR)L'invention concerne un procédé et un système pour graver une couche antireflet résistante à la gravure et accordable (TERA), laquelle peut servir, par exemple, de masque dur ou de couche antireflet comme complément d'une structure lithographique. Cette couche TERA comporte une formule structurelle R:C:H:X, dans laquelle R est sélectionné dans le groupe comprenant Si, Ge, B, Sn, Fe, Ti et des combinaisons de ces éléments, X étant absent ou sélectionné dans le groupe comprenant un ou plusieurs éléments parmi O, N, S et F. Pendant la formation d'une structure dans une superposition de films, un motif est transféré sur la couche TERA par gravure sèche par plasma dont la chimie de gravure est à base de SF6.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)