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1. (WO2006025639) APPAREIL PERMETTANT DE NETTOYER UN SUBSTRAT ET PROCEDE ASSOCIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/025639    N° de la demande internationale :    PCT/KR2005/001196
Date de publication : 09.03.2006 Date de dépôt international : 26.04.2005
CIB :
H01L 21/304 (2006.01)
Déposants : SFA ENGINEERING CORP. [KR/KR]; 42-7, Palyong-dong, Changwon-shi, Kyungsangnamdo 641-847 (KR) (Tous Sauf US).
KWAK, Il-Soon [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
CHOI, Yoo-Chan [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
CHOI, Sung-Won [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
SEO, In-Yong [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : KWAK, Il-Soon; (KR).
CHOI, Yoo-Chan; (KR).
CHOI, Sung-Won; (KR).
SEO, In-Yong; (KR)
Mandataire : KIM, Inhan; Room 901, Doorea Bldg., 24, Yeouido-dong, Yeongdeungpo-gu, Seoul 150-877 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2004-0069976 02.09.2004 KR
Titre (EN) APPARATUS FOR CLEANING A SUBSTRATE AND METHOD THEREOF
(FR) APPAREIL PERMETTANT DE NETTOYER UN SUBSTRAT ET PROCEDE ASSOCIE
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed herein are a method and an apparatus for cleaning a substrate using a mixture of electrolyzed water and ozone water during fabrication of a display device. The apparatus comprises a loading section, a cleaning section and an unloading section wherein the cleaning section includes electrolyzed water/ozone water cleaning means arranged adjacent to the loading section to spray electrolyzed water/ozone water on a substrate so as to clean the substrate, rinsing means arranged adjacent to the electrolyzed water/ozone water cleaning means to rinse the cleaned substrate using deionized water, drying means arranged adjacent to the rinsing means to dry the rinsed substrate, and substrate conveying means for passing the substrate through the loading section, the cleaning section and unloading section in this order.
(FR)La présente invention se rapporte à un procédé et à un appareil permettant de nettoyer un substrat à l'aide d'un mélange d'eau électrolysée et d'eau ozonée pendant la fabrication d'un dispositif d'affichage. L'appareil selon l'invention comprend une section de charge, une section de nettoyage et une section de décharge, ladite section de nettoyage contenant un moyen de nettoyage à l'eau électrolysée/eau ozonée, disposé de manière adjacente à la section de charge et destiné à vaporiser de l'eau électrolysée/eau ozonée sur un substrat afin de nettoyer ce dernier, un moyen de rinçage, disposé de manière adjacente au moyen de nettoyage à l'eau électrolysée/eau ozonée et destiné à rincer le substrat nettoyé avec de l'eau désionisée, un moyen de séchage, disposé de manière adjacente au moyen de rinçage et destiné à sécher le substrat rincé, et un moyen de transport de substrat, destiné faire passer le substrat successivement à travers la section de charge, la section de nettoyage et la section de décharge.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : coréen (KO)