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1. (WO2006025480) DÉRIVÉ 7-SUBSTITUÉ DU CARBOSTYRIL ET MÉTHODE DE SYNTHÈSE DE CE DÉRIVÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/025480    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/015982
Date de publication : 09.03.2006 Date de dépôt international : 01.09.2005
CIB :
C07D 215/22 (2006.01), C07D 401/12 (2006.01)
Déposants : KOWA CO., LTD. [JP/JP]; 6-29, Nishiki 3-chome Naka-ku, Nagoya-shi Aichi 460-8625 (JP) (Tous Sauf US).
ONOGI, Kazuhiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ODA, Toshiaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KATAOKA, Tadashi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IWAMURA, Tatsunori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
WATANABE, Shin-ichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ONOGI, Kazuhiro; (JP).
ODA, Toshiaki; (JP).
KATAOKA, Tadashi; (JP).
IWAMURA, Tatsunori; (JP).
WATANABE, Shin-ichi; (JP)
Mandataire : THE PATENT CORPORATE BODY ARUGA PATENT OFFICE; Kyodo Bldg. 3-6, Nihonbashiningyocho 1-chome Chuo-ku, Tokyo 103-0013 (JP)
Données relatives à la priorité :
60/606,885 03.09.2004 US
Titre (EN) 7-SUBSTITUTED CARBOSTYRIL DERIVATIVE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) DÉRIVÉ 7-SUBSTITUÉ DU CARBOSTYRIL ET MÉTHODE DE SYNTHÈSE DE CE DÉRIVÉ
(JA) 7-置換カルボスチリル誘導体及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a 7-substituted carbostyril derivative represented by the formula (1) below. (1) (In the formula, R1 represents a hydroxyl group, a lower alkylsulfonyloxy group which may be substituted by a halogen atom, or a phenylsulfonyloxy group which may be substituted by a lower alkyl group.) Such a 7-substituted carbostyril derivative is useful as an intermediate for pharmaceutical products. Also disclosed is a method for commercially advantageously producing such a 7-substituted carbostyril derivative.
(FR)La présente invention décrit un dérivé du carbostyril substitué en position 7, de formule (1) ci-dessous. (1) (Dans la formule, R1 représente un groupement hydroxy, un groupement alkylsulfonyloxy dont la chaîne carbonée est courte et qui peut être substitué par un atome d’halogène, ou un groupement phénylsulfonyloxy qui peut être substitué par un groupement alkyle court.) Ledit dérivé est utilisé en tant qu’intermédiaire de synthèse de produits pharmaceutiques. La présente invention décrit également une méthode permettant de produire de façon économiquement avantageuse ledit dérivé 7-substitué du carbostyril.
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)