WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2006025302) DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE DÉCISION DE FONCTIONNEMENT, SYSTÈME DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE GESTION D'ENTRETIEN ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/025302    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/015628
Date de publication : 09.03.2006 Date de dépôt international : 29.08.2005
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), H01L 21/02 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
SHIRATA, Yousuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHIRATA, Yousuke; (JP)
Mandataire : TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO., Karakida Center Bldg., 1-53-9, Karakida, Tama-shi Tokyo 2060035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-249395 30.08.2004 JP
Titre (EN) EXPOSURE DEVICE, OPERATION DECISION METHOD, SUBSTRATE TREATMENT SYSTEM AND MAINTENANCE MANAGEMENT METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE DÉCISION DE FONCTIONNEMENT, SYSTÈME DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE GESTION D'ENTRETIEN ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 露光装置、動作決定方法、基板処理システム及びメンテナンス管理方法、並びにデバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)An exposure device includes a main control device (120) for deciding the operation of the exposure device according to the information on the maintenance from a C/D. When the main control device (120) should stop the primary operation of the exposure device during a C/D maintenance, it is possible to decide to perform a particular operation required for maintaining the performance of the device and requiring stop of the primary operation of the device. As a result, it is possible to reduce the down time of the exposure device, as a whole, required for performing the particular operation and improve the operation ratio without lowering the device performance of the exposure device inline-connected to the substrate treating device.
(FR)Le dispositif d'exposition décrit comprend un dispositif de commande principal (120) conçu pour décider du fonctionnement du dispositif d'exposition en fonction des informations sur l'entretien provenant de C/D. Quand le dispositif de commande principal (120) doit interrompre le fonctionnement premier du dispositif d'exposition pendant un entretien de C/D, il est possible de décider d'effectuer une opération particulière requise pour entretenir les performances du dispositif et nécessitant l'interruption du fonctionnement premier du dispositif. De ce fait, il est possible de réduire dans l'ensemble le temps d'arrêt du dispositif d'exposition requis pour effectuer l'opération particulière et d'améliorer le rendement sans diminuer les performances du dispositif d'exposition connecté en ligne avec le dispositif de traitement de substrat.
(JA) 露光装置が、C/Dからのメンテナンスに関する情報に基づいて、自装置の動作を決定する主制御装置(120)を備えているので、主制御装置(120)が、C/Dのメンテナンス中、すなわち露光装置の本来の運転も必然的に停止しなければならないときに、これと並行して、自装置の性能維持のために必要な動作であって装置本来の動作の停止が必要となる特定動作を行うことを決定することができる。この結果、その特定動作を行うのに必要な露光装置のダウンタイムを全体として減少させることができ、これにより、基板処理装置にインライン接続された露光装置の装置性能を低下させることなく、稼働率を向上させることができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)