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1. (WO2006023321) CIBLES A FENTES PERMETTANT DE DEPOSER UN FILM MINCE PAR PULVERISATION DESTINEES A DES MATERIAUX FERROMAGNETIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/023321    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/028176
Date de publication : 02.03.2006 Date de dépôt international : 10.08.2005
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    07.04.2006    
CIB :
C23C 14/35 (2006.01)
Déposants : WILLIAMS ADVANCED MATERIALS, INC. [US/US]; 2978 Main Street, Buffalo, NY 14214 (US) (Tous Sauf US).
WILLSON, Matthew, T. [US/US]; (US) (US Seulement).
GROHMAN, Henry, L. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : WILLSON, Matthew, T.; (US).
GROHMAN, Henry, L.; (US)
Mandataire : KAREKEN, Ronal, S.; Hiscock & Barclay, LLP, 2000 HSBC Plaza, Rochester, NY 14604-2404 (US)
Données relatives à la priorité :
60/601,865 16.08.2004 US
11/200,930 10.08.2005 US
Titre (EN) SLOTTED THIN-FILM SPUTTER DEPOSITION TARGETS FOR FERROMAGNETIC MATERIALS
(FR) CIBLES A FENTES PERMETTANT DE DEPOSER UN FILM MINCE PAR PULVERISATION DESTINEES A DES MATERIAUX FERROMAGNETIQUES
Abrégé : front page image
(EN)A slotted sputtering target (16) for a magnetron sputtering system (10) for thin-film deposition particularly suited for ferromagnetic target materials such as cobalt, nickel, and iron or an alloy including more than one of these elements.
(FR)L'invention concerne une cible de pulvérisation à fentes destinée à un système de pulvérisation magnétron permettant de déposer un film mince approprié pour des matériaux ferromagnétiques, tels que le cobalt, le nickel, et le fer ou un alliage contenant plus d'un desdits éléments.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)