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1. (WO2006023219) PROCEDE ET APPAREIL PERMETTANT D'AMELIORER LA MOBILITE DANS UN DISPOSITIF A SEMICONDUCTEUR

Pub. No.:    WO/2006/023219    International Application No.:    PCT/US2005/026543
Publication Date: 2 mars 2006 International Filing Date: 27 juil. 2005
IPC: H01L 21/336
Applicants: FREESCALE SEMICONDUCTOR, INC.
ORLOWSKI, Marius, K.
VENKATESAN, Suresh
Inventors: ORLOWSKI, Marius, K.
VENKATESAN, Suresh
Title: PROCEDE ET APPAREIL PERMETTANT D'AMELIORER LA MOBILITE DANS UN DISPOSITIF A SEMICONDUCTEUR
Abstract:
L'invention concerne un procédé et un appareil qui permettent d'améliorer la mobilité dans la région canal d'un transistor. Dans un mode de réalisation, une région canal (18) est formée sur un substrat qui est mis sous contrainte bi-axiale. Des régions source (30) et drain (32) sont formées sur le substrat. Les régions source et drain ajoutent une contrainte uni-axiale à la région canal soumise à la contrainte bi-axiale. La contrainte uni-axiale et la contrainte bi-axiale s'exercent toutes deux en compression pour les transistors à canal P et en traction pour les transistors à canal N. L'invention permet de cette manière d'améliorer la mobilité tant pour les transistors à canal court que pour les transistors à canal long. Les deux types de transistors peuvent être inclus dans le même circuit intégré.