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1. (WO2006023037) MATERIAUX SILICONES PHOTOPOLYMERISABLES FORMANT DES MEMBRANES SEMI-PERMEABLES POUR CAPTEURS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/023037    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/021768
Date de publication : 02.03.2006 Date de dépôt international : 21.06.2005
CIB :
G03F 7/075 (2006.01), C12Q 1/00 (2006.01), G01N 33/543 (2006.01), G01N 27/40 (2006.01)
Déposants : DOW CORNING CORPORATION [US/US]; 2200 West Salzburg Road, Midland, MI 48686-0994 (US) (Tous Sauf US).
GARDNER, Geoffrey, Bruce [US/US]; (US) (US Seulement).
MAGHSOODI, Sina [US/US]; (US) (US Seulement).
HARKNESS, Brian, Robert [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : GARDNER, Geoffrey, Bruce; (US).
MAGHSOODI, Sina; (US).
HARKNESS, Brian, Robert; (US)
Mandataire : BROWN, Catherine, U.; Dow Corning Corporation, 2200 West Salzburg Road, Midland, MI 48686-0994 (US)
Données relatives à la priorité :
60/600,449 11.08.2004 US
Titre (EN) PHOTOPOLYMERIZABLE SILICONE MATERIALS FORMING SEMIPERMEABLE MEMBRANES FOR SENSOR APPLICATIONS
(FR) MATERIAUX SILICONES PHOTOPOLYMERISABLES FORMANT DES MEMBRANES SEMI-PERMEABLES POUR CAPTEURS
Abrégé : front page image
(EN)A method for preparing sensing devices (biosensors) includes the steps of: (1) applying a photopatternable silicone composition to a surface in a sensing device to form a film, (2) photopatterning the film by a process comprising exposing the film to radiation through a photomask without the use of a photoresist to produce an exposed film; (3) removing regions of the non-exposed film with a developing solvent to form a patterned film, which forms a permselective layer or an analyte attenuation layer covering preselected areas of the sensing device.
(FR)L'invention concerne un procédé pour préparer des dispositifs capteurs (biocapteurs), qui consiste (1) à appliquer une composition de silicone photostructurable sur une surface dans un dispositif capteur pour former un film, (2) à photostructurer ce film par un processus consistant à exposer ce film à un rayonnement à travers un photomasque sans résine photosensible pour produire un film exposé, (3) à retirer des zones du film non exposé à l'aide d'un solvant de développement pour former un film structuré, formant une couche à perméabilité sélective ou une couche d'atténuation d'analyte couvrant des zones présélectionnées du dispositif capteur.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)