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1. (WO2006021707) SYSTEME ELECTROCHIMIQUE COMPORTANT AU MOINS UNE ZONE DE MARGEAGE PARTIEL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/021707    N° de la demande internationale :    PCT/FR2005/050596
Date de publication : 02.03.2006 Date de dépôt international : 20.07.2005
CIB :
G02F 1/153 (2006.01)
Déposants : SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE [FR/FR]; 18 Avenue d'Alsace, F-92400 COURBEVOIE (FR) (Tous Sauf US).
VALENTIN, Emmanuel [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
DUBRENAT, Samuel [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : VALENTIN, Emmanuel; (FR).
DUBRENAT, Samuel; (FR)
Mandataire : SAINT-GOBAIN RECHERCHE; 39 Quai Lucien Lefranc, F-93300 AUBERVILLIERS (FR)
Données relatives à la priorité :
0451786 04.08.2004 FR
Titre (EN) ELECTROCHEMICAL SYSTEM COMPRISING AT LEAST ONE PARTIAL MAKING UP ZONE
(FR) SYSTEME ELECTROCHIMIQUE COMPORTANT AU MOINS UNE ZONE DE MARGEAGE PARTIEL
Abrégé : front page image
(EN)The invention concerns an electrochemical device comprising at least one support substrate (S1) provided with a stack of functional layers defining a deposition zone and comprising successively: a first electrically conductive layer (1) (closest to the substrate), a first electrochemically active layer (2), an electrolyte layer (3), a second electrochemically active layer (4), a second electrically conductive layer (5). The invention is characterized in that the stack of functional layers is deactivated, except the first electrochemically active layer (2), at least at the first partial making up zone (A) located along at least one edge of said deposition zone.
(FR)Dispositif électrochimique comprenant au moins un substrat (S1) porteur muni d'un empilement de couches fonctionnelles définissant une zone de dépôt et comprenant successivement : - une première couche électroconductrice (1) (la plus proche du substrat), - une première couche électrochimiquement active (2), - une couche d'électrolyte (3), - une seconde couche électrochimiquement active (4), - une seconde couche électroconductrice (5), caractérisé en ce que l'empilement de couches fonctionnelles est désactivé, à l'exception de la première couche électrochimiquement active (2), au niveau d'au moins une première zone de margeage partiel (A) située le long d'au moins un bord de ladite zone de dépôt.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)