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1. (WO2006021419) SYSTEME D'ECLAIRAGE D'UN APPAREIL D'EXPOSITION DE MICROLITHOGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/021419    N° de la demande internationale :    PCT/EP2005/009093
Date de publication : 02.03.2006 Date de dépôt international : 23.08.2005
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2, D-73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
SINGER, Wolfgang [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WANGLER, Johannes [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
EGGER, Rafael [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
ULRICH, Wilhelm [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : SINGER, Wolfgang; (DE).
WANGLER, Johannes; (DE).
EGGER, Rafael; (DE).
ULRICH, Wilhelm; (DE)
Mandataire : SCHWANHÄUSSER, Gernot; Ostertag & Partner, Eibenweg 10, 70597 Stuttgart (DE)
Données relatives à la priorité :
60/603,772 23.08.2004 US
Titre (EN) ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE APPARATUS
(FR) SYSTEME D'ECLAIRAGE D'UN APPAREIL D'EXPOSITION DE MICROLITHOGRAPHIE
Abrégé : front page image
(EN)An illumination system of a microlithographic exposure apparatus (PEA) has an optical axis (OA) and a beam transforming device (20; 120; 220; 320; 420; 520; 1020; 1120; 1220; 1320; 1420; 1520). This device comprises a first mirror (122; 222; 322; 422; 522; 1122; 1222; 1322; 1422; 1522) with a first reflective surface (124; 224; 424; 524; 1124; 1224) having a shape that is defined by rotating a straight line, which is inclined with respect to the optical axis (OA), around the optical axis (OA). The device further comprises a second mirror (126, 126a, 126b; 226a, 226b; 326a, 326b; 426a; 426b; 526; 1126; 1226; 1326a, 1326b; 1426a, 1426b; 1526a, 1526b) with a second reflective surface (130, 130a, 130b; 1130) having a shape that is defined by rotating a curved line around the optical axis (OA). At least one of the mirrors has a central aperture (128) containing the optical axis (OA). This device may form a zoom-collimator (1020; 1120; 1220; 1320; 1420; 1520) for an EUV illumination system that transforms a diverging light bundle into a collimated light bundle of variable shape and/or diameter.
(FR)L'invention concerne un système d'éclairage d'un appareil d'un système d'exposition de microlithographie (PEA) comprenant un axe optique (OA) et un dispositif de transformation de faisceau (20 ; 120 ; 220 ; 320 ; 420 ; 520 ; 1020 ; 1120 ; 1220 ; 1320 ; 1420 ; 1520). Ce dispositif comprend un premier miroir (122 ; 222 ; 322 ; 422 ; 522 ; 1122 ; 1222 ; 1322 ; 1422 ; 1522) possédant une première surface réfléchissante (124 ; 224 ; 424 ; 524 ; 1124 ; 1224) ayant une forme qui est définie par rotation d'une ligne droite, inclinée par rapport à l'axe optique (OA), autour de l'axe optique (OA). Le dispositif comprend également un second miroir (126, 126a, 126b ; 226a, 226b ; 326a, 326b ; 426a ; 426b ; 526 ; 1126 ; 1226 ; 1326a, 1326b ; 1426a, 1426b ; 1526a, 1526b) possédant une seconde surface réfléchissante (130, 130a, 130b ; 1130) ayant une forme qui est définie par rotation d'une ligne incurvée autour de l'axe optique (OA). Au moins un des miroirs comporte une ouverture centrale (128) contenant l'axe optique (OA). Ce dispositif peut former un zoom-collimateur (1020 ; 1120 ; 1220 ; 1320 ; 1420 ; 1520) pour un système d'éclairage dans l'ultraviolet extrême qui transforme un faisceau lumineux divergent en faisceau lumineux collimaté de forme et/ou de diamètre variable.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)