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1. (WO2005091343) MIROIR, PROCÉDÉ D’ALIGNEMENT DE POSITION, PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UNITÉ OPTIQUE, UNITÉ OPTIQUE, ET DISPOSITIF D’EXPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/091343    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/005206
Date de publication : 29.09.2005 Date de dépôt international : 23.03.2005
CIB :
G02B 7/02 (2006.01), G02B 7/198 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), G21K 1/06 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
NISHIKAWA, Jin [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OSHINO, Tetsuya [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NISHIKAWA, Jin; (JP).
OSHINO, Tetsuya; (JP)
Mandataire : TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO., Karakida Center Bldg., 1-53-9 Tama-shi Tokyo 2060035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-085106 23.03.2004 JP
2004-120698 15.04.2004 JP
Titre (EN) MIRROR, POSITION ALIGNING METHOD, OPTICAL UNIT PRODUCING METHOD, OPTICAL UNIT, AND EXPOSURE DEVICE
(FR) MIROIR, PROCÉDÉ D’ALIGNEMENT DE POSITION, PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UNITÉ OPTIQUE, UNITÉ OPTIQUE, ET DISPOSITIF D’EXPOSITION
(JA) ミラー、位置合わせ方法、光学ユニットの製造方法及び光学ユニット、並びに露光装置
Abrégé : front page image
(EN)A reflective surface is formed on one surface of a mirror (M1), and on a part of a side surface of the mirror, there are formed flat surfaces (65x, 65y) in parallel with an optical reference axis (BX) functioning as the reference for the reflective surface. The optical reference axis of the mirror (M1) is detected by an aspherical surface measuring device, and simultaneously, the reference surfaces are detected by a laser interferometer etc., thereby obtaining in advance a positional relationship between the optical reference axis and the reference flat surfaces. This makes it possible that, from this onward, the position and attitude (tilt etc.) of the reference flat surfaces are measured by a three-dimensional measurement device etc., and based on the measurement result and the positional relationship, the position and tilt of the optical reference axis of the mirror can be indirectly measured at high accuracy. As a consequence, with the use of the mirror (M1), an optical unit with highly accurate optical characteristics can be easily produced using a simple measuring device such as a three-dimensional measurement device.
(FR)Une surface réfléchissante est formée sur une surface de miroir (M1), et sur une partie de surface latérale du miroir, des surfaces plates (65x, 65y) sont formées en parallèle avec un axe de référence optique (BX) fonctionnant comme référence pour la surface réfléchissante. L’axe de référence optique du miroir (M1) est détecté par un dispositif de mesure de surface asphérique, et simultanément, les surfaces de référence sont détectées par un interféromètre laser, etc., obtenant ainsi par avance une relation positionnelle entre l’axe de référence optique et les surfaces plates de référence. Ce phénomène permet, dans ce contexte, de mesurer la position et l’attitude (inclinaison, etc.) des surfaces plates de référence, à l’aide d’un dispositif de mesure en trois dimensions etc., et sur la base du résultat de mesure et de la relation positionnelle, la position et l’inclinaison de l’axe de référence optique du miroir peuvent être mesurées indirectement avec une précision élevée. En conséquence, l’utilisation du miroir (M1) permet de fabriquer facilement une unité optique aux caractéristiques optiques extrêmement précises, à l’aide d’un simple dispositif de mesure comme par exemple un dispositif de mesure en trois dimensions.
(JA)ミラー(M1)は、その一面に反射面が形成され、その側面の一部に、前記反射面の基準となる光学基準軸(BX)に平行な基準平面(65x,65y)が形成されている。このミラー(M1)の光学基準軸を非球面測定装置を用いて検出し、同時にレーザ干渉計などで基準平面を検出することで、光学基準軸と基準平面の位置関係を、予め求めておく。これにより、その後は、基準平面の位置、姿勢(チルト等)を、三次元測定器などで計測し、その計測結果と上記の位置関係とに基づいて、間接的にミラーの光学基準軸の位置、傾きを精度良く計測することが可能となる。従って、ミラー(M1)を用いることにより、三次元測定器などの簡易な測定装置を用いて、高精度な光学特性を有する光学ユニットを容易に製造することが可能になる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)