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1. (WO2005090249) PROCEDE ET EQUIPEMENT DE FRITTAGE DE MATERIAU DE BASE DE VERRE POREUX
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/090249    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/003922
Date de publication : 29.09.2005 Date de dépôt international : 07.03.2005
CIB :
C03B 8/04 (2006.01), C03B 37/014 (2006.01)
Déposants : SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 6-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004 (JP) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NA, NE, NI, NL, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, SY, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW only).
YOSHIDA, Makoto [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAMIO, Takeshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOIDE, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YOSHIDA, Makoto; (JP).
KAMIO, Takeshi; (JP).
KOIDE, Hiroyuki; (JP)
Mandataire : RYUKA, Akihiro; 5F, Shinjuku Square Tower 22-1, Nishi-Shinjuku 6-chome Shinjuku-ku, Tokyo 163-1105 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-078168 18.03.2004 JP
Titre (EN) METHOD AND EQUIPMENT FOR SINTERING POROUS GLASS BASE MATERIAL
(FR) PROCEDE ET EQUIPEMENT DE FRITTAGE DE MATERIAU DE BASE DE VERRE POREUX
(JA) 多孔質ガラス母材の焼結方法及び焼結装置
Abrégé : front page image
(EN)A method and equipment for sintering a porous glass base material which do not cause displacement of the core or elliptical deformation of the outer circumference of the base material. When it is dehydrated and turned into transparent glass by being sintered. The sintering method of a porous glass base material for sintering a rod-like porous glass base material by passing it through a heating furnace while being suspended, characterized in that the porous glass base material is lowered into the heating furnace where the temperature is raised to a sintering point, each part of the porous glass base material is passed through a preheating region from the upper end of the heat insulating material of the heating furnace body to the upper end of a heater over 4.5 hr or longer and then sintered by means of the heater to produce transparent glass.
(FR)Il est prévu un procédé et un équipement de frittage de matériau de base de verre poreux ne provoquant pas le déplacement du noyau ni la déformation elliptique de la circonférence externe du matériau de base, lorsqu’il se déshydrate et se transforme en verre transparent par frittage. Le procédé de frittage d’un matériau de base de verre poreux pour fritter un matériau de base de verre poreux en tige en le faisant passer dans un four de chauffage tout en étant suspendu, caractérisé en ce que le matériau de base de verre poreux est abaissé dans le four de chauffage dans lequel la température est portée à un point de frittage, chaque partie du matériau de base de verre poreux est passée dans une région de préchauffage depuis l’extrémité supérieure du matériau isolant thermiquement du corps du four de chauffage vers l’extrémité supérieure d’un radiateur pendant 4 heures et demie, voire davantage, avant frittage au moyen du radiateur pour produire un verre transparent.
(JA) 多孔質ガラス母材を焼結して脱水及び透明ガラス化処理する際、コアの偏芯や母材外周の楕円化を起こさないで焼結する多孔質ガラス母材の焼結方法及び焼結装置を提供する。即ち、本発明は、棒状の多孔質ガラス母材を吊り下げ、加熱炉内を通過させることにより焼結する多孔質ガラス母材の焼結方法において、該多孔質ガラス母材を焼結温度に昇温された加熱炉内に引下げ、多孔質ガラス母材の各部位を、加熱炉体の断熱材上端からヒーター上端に至る予熱領域を4.5hr以上かけて通過させた後、ヒーターで焼結し透明ガラス化することを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)