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1. (WO2005090081) DISPOSITIF DE DEPOSE D’UNE GOUTTE DE LIQUIDE ET PROCEDE DE DEPOSE D’UNE GOUTTE DE LIQUIDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/090081    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/003514
Date de publication : 29.09.2005 Date de dépôt international : 02.03.2005
CIB :
B05C 5/00 (2006.01), B05C 11/00 (2006.01), B41J 2/01 (2006.01)
Déposants : MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (Tous Sauf US).
NAKAGAWA, Tohru; (US Seulement).
MINO, Norihisa; (US Seulement)
Inventeurs : NAKAGAWA, Tohru; .
MINO, Norihisa;
Mandataire : IKEUCHI SATO & PARTNER PATENT ATTORNEYS; 26th Floor, OAP TOWER 8-30, Tenmabashi 1-chome Kita-ku, Osaka-shi Osaka 530-6026 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-077003 17.03.2004 JP
Titre (EN) LIQUID DROP PLACING DEVICE AND LIQUID DROP PLACING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE DEPOSE D’UNE GOUTTE DE LIQUIDE ET PROCEDE DE DEPOSE D’UNE GOUTTE DE LIQUIDE
(JA) 液滴配置装置及び液滴配置方法
Abrégé : front page image
(EN)A liquid drop placing device includes an inkjet head (1), a substrate (13) receiving a liquid drop (2) discharged from the inkjet head (1), a device for irradiating or reflecting light from a nozzle hole or its vicinity of the inkjet head (1) toward the substrate (13), a position moving device (10) for controlling relative positions between the inkjet head (1) and the substrate (13), and a control device (9) for discharging liquid from the inkjet head (1). Behind the substrate (13), when seen from the inkjet head (1), is provided a photo receiving element (6) for recognizing the position of the inkjet head (1). The substrate (13) has transparency of the extent where the light irradiated or reflected at least from the nozzle hole or its vicinity toward the substrate (13) enters in the photo receiving element (6), and the photo receiving element (6) detects the light irradiated or reflected from the nozzle hole or its vicinity toward the substrate (13). As a result, relative positions of the inkjet head and the substrate are accurately adjusted even if the distance between the two is short.
(FR)Un dispositif de dépose d’une goutte de liquide comporte une tête à jet d’encre (1), un substrat (13) recevant une goutte de liquide (2) fournie par la tête à jet d’encre (1), un dispositif pour rayonner ou réfléchir de la lumière à partir d’un trou de buse ou son voisinage de la tête à jet d’encre (1) en direction du substrat (13), un dispositif de déplacement de position (10) pour régler les positions relatives entre la tête à jet d’encre (1) et le substrat (13), et un dispositif de commande (9) pour fournir du liquide de la tête à jet d’encre (1). Derrière le substrat (13) vu depuis la tête à jet d’encre (1), il est prévu un élément photorécepteur (6) pour reconnaître la position de la tête à jet d’encre (1). Le substrat (13) présente une transparence telle que la lumière rayonnée ou réfléchie au moins depuis le trou de buse ou son voisinage en direction du substrat (13) pénètre dans l’élément photorécepteur (6), et l’élément photorécepteur (6) détecte la lumière rayonnée ou réfléchie depuis le trou de buse ou son voisinage en direction du substrat (13). Les positions relatives de la tête à jet d’encre et du substrat peuvent donc être ajustées avec précision même si la distance les séparant est courte.
(JA) インクジェットヘッド(1)と、インクジェットヘッド(1)から吐出された液滴(2)を受ける基板(13)と、インクジェットヘッド(1)のノズル孔又はその周辺から基板(13)に向けて光を照射又は反射する装置と、インクジェットヘッド(1)と基板(13)との相対的な位置を制御する位置移動装置(10)と、インクジェットヘッド(1)からの液体を吐出する制御装置(9)とを含み、インクジェットヘッド(1)から見て基板(13)の後方に、インクジェットヘッド(1)の位置を認識する受光素子(6)を配置し、基板(13)は少なくともノズル孔又はその周辺から基板(13)に向けた照射光又は反射光が受光素子(6)に入る程度の透明度があり、受光素子(6)は、ノズル孔又はその周辺から基板(13)に向けた照射光又は反射光を検知する。これにより、インクジェットヘッドと基板との距離が短くてもインクジェットヘッドと基材との相対的な位置を正確に調整する。                                                                                       
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)