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1. (WO2005088526) PROCEDE DE FABRICATION D’UNE ENTREE D’UNE ETIQUETTE ELECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/088526    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/000467
Date de publication : 22.09.2005 Date de dépôt international : 17.01.2005
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    17.01.2005    
CIB :
G06K 19/00 (2006.01), H01Q 9/16 (2006.01), H05K 3/06 (2006.01)
Déposants : RENESAS TECHNOLOGY CORP. [JP/JP]; 4-1, Marunouchi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-6334 (JP) (Tous Sauf US).
MORINAGA, Yuichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IKEDA, Yuji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAKAMOTO, Shintaro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MORINAGA, Yuichi; (JP).
IKEDA, Yuji; (JP).
SAKAMOTO, Shintaro; (JP)
Mandataire : TSUTSUI, Yamato; Tsutsui & Associates 3F, Azeria Bldg. 1-1, Nishi-shinjuku 8-chome Shinjuku-ku, Tokyo 160-0023 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-070463 12.03.2004 JP
Titre (EN) PRODUCTION PROCESS OF INLET FOR ELECTRONIC TAG
(FR) PROCEDE DE FABRICATION D’UNE ENTREE D’UNE ETIQUETTE ELECTRONIQUE
(JA) 電子タグ用インレットの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A technology for forming the antenna pattern of an inlet for an electronic tag inexpensively and with high accuracy. A resist film is formed using a gravure printing press when the antenna pattern is formed by chemical etching. Extending direction of a region (16C) having a minimum width in a protrusion (16) on the surface of a gravure plate is set reversely to the rotational direction of the gravure plate (relative advancing direction of a doctor when viewed from the gravure plate). Radius of curvature at a bend in a region (16B) is set larger on the inner circumference than on the outer circumference, and the outer edge of a region (16D) is tapered forward toward a position D such that the width WD of the region (16D) becomes larger than the width WC of the region (16C) at the position D where one end of the protrusion (16) reaches.
(FR)Technique de formation du motif d’antenne d’une entrée d’une étiquette électronique, à faible coût et avec une grande précision. Une couche de résist est formée à l’aide d’une presse d’héliogravure lorsque le motif d’antenne est formé par attaque chimique. Le sens de prolongement d’une région (16C) présentant une largeur minimale dans une protubérance (16) sur la surface d’une plaque de gravure est établi dans le sens inverse du sens de rotation de la plaque de gravure (par rapport au sens d’avancée d’une racle, vue depuis la plaque de gravure). Le rayon de courbure au niveau d’un coude dans une région (16B) est plus important sur la circonférence intérieure que sur la circonférence extérieure, et le bord extérieur d’une région (16D) va en s’amincissant vers l’avant en direction d’une position D, de telle sorte que la largeur WD de la région (16D) devienne plus importante que la largeur WC de la région (16C) au niveau de la position D à laquelle parvient une extrémité de la protubérance (16).
(JA) 電子タグ用インレットのアンテナのパターンを精度よく、かつ安価に形成できる技術を提供するため、アンテナのパターンをケミカルエッチングによって形成する際のレジスト膜をグラビア印刷機を用いて形成し、グラビア版の表面の凸部16における最小の幅を有する領域16Cの延在方向をグラビア版の回転方向とは反対向き(グラビア版から見たドクターの相対的な進行方向)とし、領域16Bにおける屈曲部の内周の曲率半径を外周の曲率半径より大きくし、凸部16の一端が達する位置Dにて領域16Dの幅WDが領域16Cの幅WCよりも大きくなるように、領域16Dの外縁を位置Dに向かって順テーパー状となるように形成する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)