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1. (WO2005087982) IMPLANTS METALLIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/087982    N° de la demande internationale :    PCT/GB2005/000645
Date de publication : 22.09.2005 Date de dépôt international : 03.03.2005
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    23.12.2005    
CIB :
A61F 2/30 (2006.01), A61L 27/04 (2006.01), A61L 27/06 (2006.01), A61L 27/30 (2006.01), A61L 27/32 (2006.01), A61L 27/54 (2006.01), A61L 27/56 (2006.01), C25D 11/26 (2006.01)
Déposants : ACCENTUS PLC [GB/GB]; c/o Nova Capital, First floor, Schomberg House, 80-82 Pall Mall, London SW1Y 5HF (GB) (Tous Sauf US).
PICKFORD, Martin, Edward, Lee [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
LEWIS, David, Richard [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
TURNER, Andrew, Derek [GB/GB]; (GB) (US Seulement)
Inventeurs : PICKFORD, Martin, Edward, Lee; (GB).
LEWIS, David, Richard; (GB).
TURNER, Andrew, Derek; (GB)
Mandataire : MANSFIELD, Peter, Turquand; IP Solutions, Fugro House, Hithercroft Road, Wallingford, Oxon, OX10 9RB (GB)
Données relatives à la priorité :
0405680.0 13.03.2004 GB
Titre (EN) METAL IMPLANTS
(FR) IMPLANTS METALLIQUES
Abrégé : front page image
(EN)A metal implant for use in a surgical procedure is provided with a surface layer that is integral with the metal substrate, and which incorporates a biocidal material. The surface layer is grown by anodising at a voltage between 50 and 150 V, and the biocidal material incorporated in it by ion exchange. This produces a significantly harder surface than anodising at low voltage, and generates pits containing ion-absorbing material.
(FR)Implant métallique conçu pour être utilisé dans une intervention chirurgicale et comportant une couche superficielle solidaire du substrat métallique, tout en incorporant un matériau biocide. La couche superficielle est créée par anodisation à une tension entre 50 et 150 V et le matériau biocide est incorporé dans ladite couche par échange d'ions. Ceci permet d'obtenir une surface considérablement plus dure que par anodisation à basse tension et de générer des puits contenant un matériau absorbeur d'ions.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)