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1. (WO2005087969) EQUIPEMENT D’ALIGNEMENT ET EQUIPEMENT DE FORMATION DE COUCHE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/087969    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/003173
Date de publication : 22.09.2005 Date de dépôt international : 25.02.2005
CIB :
C23C 14/04 (2006.01), H01L 21/68 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01), H05B 33/14 (2006.01)
Déposants : ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500 Hagisono, Chigasaki-shi Kanagawa 2538543 (JP) (Tous Sauf US).
TANAKA, Hisato [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TANAKA, Hisato; (JP)
Mandataire : IISAKA, Yasuo; Utoku-building 6-85, Benten-dori, Naka-ku Yokohama-shi, Kanagawa 2310007 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-068846 11.03.2004 JP
Titre (EN) ALIGNMENT EQUIPMENT AND FILM FORMING EQUIPMENT
(FR) EQUIPEMENT D’ALIGNEMENT ET EQUIPEMENT DE FORMATION DE COUCHE
(JA) アライメント装置及び成膜装置
Abrégé : front page image
(EN)An accuracy of alignment of a substrate with a mask is improved and a film forming plane of the substrate after film forming is protected by eliminating a positional shift of the substrate at the time of moving up and down a magnet. A substrate holding mechanism is provided for holding the substrate (5) to freely move it up and down against the mask (6), which is made of a magnetic material and is supported by a mask holder (11), an alignment mechanism is provided for aligning the mask (6) with the substrate (5), and a magnet lifting mechanism (12) is provided for moving up and down against the substrate (5) a magnet (7), which brings the mask (6) into close contact with the substrate (5). The substrate holding mechanism is provided with a plurality of substrate holding units (10) which have a pair of first and second hooks (21) and (22) to hold the periphery of the substrate (5). The magnet lifting mechanism (12) is provided with a magnet holder (61) fixed at the lower edge of a lifting shaft (62), and a substrate holder (64), which is suspended relatively movable to the magnet holder (61) to face an upper plane of the substrate (5).
(FR)La précision de l’alignement d’un substrat par rapport à un masque est améliorée et un plan de formation de couche du substrat après la formation d’une couche est protégé par élimination d’un décalage de position du substrat lors de la montée et de la descente d’un aimant. Un mécanisme de maintien de substrat est prévu pour maintenir le substrat (5) de façon à ce qu’il monte et descende librement contre le masque (6), lequel est constitué d’un matériau magnétique et est supporté par un porte-masque (11), un mécanisme d’alignement est prévu pour aligner le masque (6) par rapport au substrat (5) et un mécanisme de levage d’aimant (12) est prévu pour faire monter et descendre un aimant (7) contre le substrat (5), ce qui amène le masque (6) au contact étroit du substrat (5). Le mécanisme de maintien de substrat est pourvu d’une pluralité d’unités de maintien de substrat (10) comportant une paire de premier et deuxième crochets (21) et (22) pour maintenir la périphérie du substrat (5). Le mécanisme de levage d‘aimant (12) est pourvu d’un porte-aimant (61) fixé au niveau du bord inférieur d’un arbre de levage (62) et d’un porte-substrat (64) qui est suspendu, de façon relativement mobile par rapport au porte-aimant (61), pour être en regard d’un plan supérieur du substrat (5).
(JA) マグネット昇降時における基板の位置ズレを防止して、基板とマスクとの間のアライメント精度の向上と成膜済の基板成膜面の保護を図る。  マスクホルダ(11)に支持されている磁性材料製のマスク(6)に対して基板(5)を昇降自在に保持する基板保持機構と、マスク(6)と基板(5)とを位置合わせするアライメント機構と、マスク(6)と基板(5)とを密着させるマグネット(7)を基板(5)に対して昇降させるマグネット昇降機構(12)とを備え、基板保持機構は、基板(5)の周縁を挟持する一対の第1,第2フック(21),(22)を有する基板保持ユニット(10)を複数備え、マグネット昇降機構(12)は、その昇降軸(62)の下端に固定されたマグネットホルダ(61)と、このマグネットホルダ(61)に対して相対移動自在に吊り下げられ基板(5)の上面に対向配置される基板押え(64)とを有している。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)