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1. (WO2005087884) COMPOSITION DE REVÊTEMENT, FILMS DE CELLE-CI, REVÊTEMENTS ANTIREFLET ET AFFICHAGES D’IMAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/087884    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/003579
Date de publication : 22.09.2005 Date de dépôt international : 03.03.2005
CIB :
B05D 5/06 (2006.01), B05D 7/24 (2006.01), B32B 7/02 (2006.01), B32B 27/00 (2006.01), B32B 27/04 (2006.01), C03C 17/38 (2006.01), C09C 1/36 (2006.01), C09C 3/08 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), C09D 201/00 (2006.01), G02B 1/11 (2006.01), G02F 1/1335 (2006.01), H05B 33/02 (2006.01), H05B 33/14 (2006.01)
Déposants : DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Ichigaya-kaga-cho 1-chome Shinjuku-ku, Tokyo 1628001 (JP) (Tous Sauf US).
SHINOHARA, Seiji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NIIMI, Takahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YOSHIHARA, Toshio [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHINOHARA, Seiji; (JP).
NIIMI, Takahiro; (JP).
YOSHIHARA, Toshio; (JP)
Mandataire : YOSHITAKE, Kenji; Kyowa Patent & Law Office Room 323, Fuji Bldg. 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku Tokyo 1000005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-071591 12.03.2004 JP
Titre (EN) COATING COMPOSITION, FILMS THEREOF, ANTIREFLECTION COATINGS, AND IMAGE DISPLAYS
(FR) COMPOSITION DE REVÊTEMENT, FILMS DE CELLE-CI, REVÊTEMENTS ANTIREFLET ET AFFICHAGES D’IMAGE
(JA) コーティング組成物、その塗膜、反射防止膜、及び画像表示装置
Abrégé : front page image
(EN)A coating composition which can give films freed or inhibited from deterioration caused by the action of a photocatalyst and having lowered haze values and which is excellent in dispersion properties of a coating fluid, dispersion stability thereof, storage stability, and application properties, characterized by comprising at least the following components (1) to (4) : (1) titanium dioxide fine particles deprived of or lowered in photocatalytic activity, which are obtained by surface-treating titanium dioxide fine particles doped with cobalt having the property of capturing free electrons and/or positive holes with a zinc chelate compound having the property of capturing free electrons and/or positive holes, (2) a binder, (3) a dispersant, and (4) an organic solvent.
(FR)Il est prévu une composition de revêtement susceptible de produire des films exempts ou protégés de toute détérioration provoquée par l’action d’un photocatalyseur et ayant des valeurs de voile abaissées, aux excellentes propriétés de dispersion d’un fluide de revêtement, de stabilité de dispersion de celui-ci, de stabilité de stockage et d’application, caractérisée en ce qu’elle comprend au moins les composants suivants (1) à (4) : (1) fines particules de dioxyde de titane dépourvues d’activité photocatalytique ou bien d’activité photocatalytique réduite, que l’on obtient par traitement superficiel de fines particules de dioxyde de titane dopées au cobalt ayant la propriété de capturer les électrons libres et/ou les trous positifs avec un composé de chélate de zinc ayant la propriété de capturer les électrons libres et/ou les trous positifs, (2) un liant, (3) un dispersant et (4) un solvant organique.
(JA) 本発明は、塗膜を形成した際に光触媒作用による塗膜の劣化を消失又は抑制することができ、塗膜とした場合に、ヘイズ値を小さくすることができ、塗工液の分散性、分散安定性に優れ、保存性に優れ、塗工適性にも優れたコーティング組成物を提供するもんどえあり、本発明に係るコーティング組成物は、少なくとも、次の(1)~(4)の成分を含むことを特徴とする。即ち、(1)自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つコバルトがドープされた二酸化チタン微粒子に対し、自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つ亜鉛キレート化合物で表面処理することにより得られた、光触媒活性が消失又は抑制された二酸化チタン微粒子と、(2)バインダー成分と、(3)分散剤と、(4)有機溶剤を含む。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)