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1. (WO2005087497) STRUCTURATION A JET D'ENCRE EN 3D DE SURFACES HAUTEMENT TOPOGRAPHIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/087497    N° de la demande internationale :    PCT/EP2005/051053
Date de publication : 22.09.2005 Date de dépôt international : 09.03.2005
CIB :
B41M 3/00 (2006.01), H05K 3/12 (2006.01), H01L 51/40 (2006.01), B41F 17/24 (2006.01), B41J 2/07 (2006.01)
Déposants : SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT [DE/DE]; Wittelsbacherplatz 2, 80333 München (DE) (Tous Sauf US).
KASPER, Michael [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
REBHAN, Matthias [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WEIDNER, Karl [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WEINKE, Robert [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : KASPER, Michael; (DE).
REBHAN, Matthias; (DE).
WEIDNER, Karl; (DE).
WEINKE, Robert; (DE)
Représentant
commun :
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT; Postfach 22 16 34, 80506 München (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2004 012 251.2 12.03.2004 DE
Titre (DE) 3D-INKJET-STRUKTURIERUNG VON HOCHTOPOGRAFISCHEN OBERFLÄCHEN
(EN) 3D-INK JET STRUCTURING OF HIGHLY TOPOGRAPHIC SURFACES
(FR) STRUCTURATION A JET D'ENCRE EN 3D DE SURFACES HAUTEMENT TOPOGRAPHIQUES
Abrégé : front page image
(DE)Die hochtopografische Oberfläche (2) eines elektronischen Bauteils (1) wird in einem Tintenstrahl-Druckverfahren mit einer Schicht (8) versehen. Dabei werden einige Bereiche (10) verstärkt bedruckt.
(EN)The highly topographic surface (2) of an electronic component (1) is provided with a layer (8) in an ink jet printing process during which some areas (10) are subjected to an intensified printing.
(FR)La surface hautement topographique d'un composant électronique est pourvue d'une couche lors d'un processus d'impression à jet d'encre et lors de ce processus, quelques zones sont imprimées de manière renforcée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)