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1. (WO2005087220) PRÉPARATION ANTIRIDES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/087220    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/004052
Date de publication : 22.09.2005 Date de dépôt international : 09.03.2005
CIB :
A61K 31/195 (2006.01), A61K 31/196 (2006.01), A61K 31/695 (2006.01), A61P 17/00 (2006.01), A61P 17/16 (2006.01)
Déposants : R & R INC. [JP/JP]; 1-1-1, Uchisaiwai-cho, Chiyoda-ku, Tokyo 1000011 (JP) (Tous Sauf US).
SHUDO, Koichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
FUJII, Seishiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHUDO, Koichi; (JP).
FUJII, Seishiro; (JP)
Mandataire : SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg. 8-7, Kyobashi 1-chome Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-068454 11.03.2004 JP
Titre (EN) ANTIWRINKLING PREPARATION
(FR) PRÉPARATION ANTIRIDES
(JA) 抗しわ剤
Abrégé : front page image
(EN)A medicine which is reduced in skin irritation and has excellent antiwrinkling activity. It contains as an active ingredient a retinoid having a phenyl-substituted carbamoylbenozic acid (or a phenyl-substituted carboxamidobenzoic acid) as the basic skeleton (e.g., 4-(2,4-bistrimethylsilylphenylcarboxamido)benzoic acid or 4-[(5,6,7,8-terahydro-5,5,8,8-tetramethyl-2-naphthalenyl)­carbamoyl]benzoic acid).
(FR)Médicament qui a un effet d'irritation de la peau réduit et qui a une excellente activité antirides. Il contient comme ingrédient actif un rétinoïde ayant un acide carbamoylbenzoïque substitué par un phényle (ou un acide carboxamidobenzoïque substitué par un phényle) comme squelette de base (par exemple l'acide 4-(2,4-bistriméthylsilylphénylcarboxamido)benzoïque ou l'acide 4-[(5,6,7,8-tétrahydro-5,5,8,8-tétraméthyl-2-naphtalényl)carbamoyl]benzoïque).
(JA) 皮膚刺激性が少なく、抗しわ作用に優れた医薬であって、フェニル置換カルバモイル安息香酸(例えば又はフェニル置換カルボキサミド安息香酸を基本骨格とするレチノイド(例えば4-(2,4-ビストリメチルシリルフェニルカルボキサミド)安息香酸又は4-[(5,6,7,8-テトラヒドロ-5,5,8,8-テトラメチル-2-ナフタレニル)カルバモイル]安息香酸など)を有効成分として含む医薬。                                                                                 
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)