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1. (WO2005086582) PROCEDES ET APPAREILS DE MANIPULATION DE FRONTS D'ONDES ET MESURES EN 3D AMELIOREES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/086582    N° de la demande internationale :    PCT/IL2005/000285
Date de publication : 22.09.2005 Date de dépôt international : 11.03.2005
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    07.10.2006    
CIB :
G01B 9/02 (2006.01)
Déposants : NANO-OR TECHNOLOGIES (ISRAEL) LTD. [IL/IL]; 1 Yodfat Street, 71291 Lod (IL) (Tous Sauf US).
ARIELI, Yoel [IL/IL]; (IL) (US Seulement).
WOLFLING, Shay [IL/IL]; (IL) (US Seulement).
LANZMANN, Emmanuel [IL/IL]; (IL) (US Seulement).
FEIGIN, Gavriel [IL/IL]; (IL) (US Seulement).
KUZNIZ, Tal [IL/IL]; (IL) (US Seulement).
SABAN, Yoram [IL/IL]; (IL) (US Seulement)
Inventeurs : ARIELI, Yoel; (IL).
WOLFLING, Shay; (IL).
LANZMANN, Emmanuel; (IL).
FEIGIN, Gavriel; (IL).
KUZNIZ, Tal; (IL).
SABAN, Yoram; (IL)
Mandataire : SANFORD T. COLB & CO.; P.O. Box 2273, 76122 Rehovot (IL).
LUDWIG, S. Peter; Darby & Darby, P.C., P.O. Box 5257, New York, NY 10150-5257 (US)
Données relatives à la priorité :
60/552,570 11.03.2004 US
Titre (EN) METHODS AND APPARATUS FOR WAVEFRONT MANIPULATIONS AND IMPROVED 3-D MEASUREMENTS
(FR) PROCEDES ET APPAREILS DE MANIPULATION DE FRONTS D'ONDES ET MESURES EN 3D AMELIOREES
Abrégé : front page image
(EN)ABSTRACT Methods and apparatus to perform wavefront analysis, including phase and amplitude information, and 3D measurements in optical systems, and in particular those based on analyzing the output of an intermediate plane, such as an image plane, of an optical system. Measurement of surface topography in the presence of thin film coatings, or of the individual layers of a multilayered structure is described.. Multi-wavelength analysis in combination with phase and amplitude mapping is utilized. Methods of improving phase and surface topography measurements by wavefront propagation and refocusing, using virtual wavefront propagation based on solutions of Maxwell's equations are described. Reduction of coherence noise in optical imaging systems is achieved by such phase manipulation methods, or by methods utilizing a combination of wideband and coherent sources. The methods are applied to Integrated Circuit inspection, to improve overlay measurement techniques, by improving contrast or by 3-D imaging, in single shot imaging.
(FR)L'invention porte: sur des procédés et appareils d'analyse de fronts d'ondes comprenant des informations de phase et d'amplitude et des mesures en 3D de systèmes optiques et en particulier celles se basant sur l'analyse des sorties d'un plan intermédiaire tel qu'un plan d'image de système optique; sur des mesures de la topographie de surfaces en présence de revêtements de films minces ou des différentes couches d'une structure multicouche; sur l'analyse de plusieurs longueurs d'onde en association avec des mises en concordance de phases et d'amplitudes; sur des méthodes d'amélioration de la mesure de la phase et de la topographie de surfaces par propagation et refocalisation du front d'onde en utilisant une propagation virtuelle du front d'onde sur la base de solutions d'équations de Maxwell; et sur la réduction du bruit de cohérence dans des systèmes optiques d'imagerie obtenue par de telles méthodes de manipulation de phases, ou par des méthodes utilisant une association de sources à large bande et cohérentes. Ces procédés s'appliquent à l'inspection de circuits intégrés pour améliorer les techniques de mesure des couches rapportées par amélioration du contraste ou de la représentation en 3D dans des images en séquence.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)