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1. (WO2005086208) APPAREIL ET PROCEDE PERMETTANT DE SECHER DES SUBSTRATS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/086208    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/006181
Date de publication : 15.09.2005 Date de dépôt international : 25.02.2005
CIB :
H01L 21/00 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue, M/S 0105, P.O. Box 58039, Santa Clara, CA 95054 (US) (Tous Sauf US).
HANSEN, Eric [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : HANSEN, Eric; (US)
Mandataire : TACKETT, Keith, M.; Patterson & Sheridan, LLP, 3040 Post Oak Boulevard, Suite 1500, Houston, TX 77056 (US)
Données relatives à la priorité :
60/548,468 27.02.2004 US
Titre (EN) APPARATUS AND METHOD FOR DRYING SUBSTRATES
(FR) APPAREIL ET PROCEDE PERMETTANT DE SECHER DES SUBSTRATS
Abrégé : front page image
(EN)The present application describes a system for drying substrates which includes a chamber and an inner vessel having an upper edge positioned within the chamber. Process fluid is directed into the inner vessel and allowed to cascade over the upper edge. The upper edge of the inner vessel is lowered to thereby lower the cascade level across the surface of the substrate, while a drying vapor is introduced into the chamber. As the cascade level descends across the surface of the substrate, the substrate surface is exposed to the drying vapor. Megasonic energy may be directed into the inner vessel to accelerate drying using boundary layer thinning.
(FR)L'invention concerne un système permettant de sécher des substrats. Ce système comprend une chambre et un récipient intérieur pourvu d'un bord supérieur disposé dans la chambre. Le fluide de traitement est dirigé dans le récipient intérieur de façon qu'il tombe en cascade sur le bord supérieur. Le bord supérieur du récipient intérieur est abaissé afin d'abaisser le niveau de la cascade sur toute la surface du substrat et une vapeur de séchage est introduite dans la chambre. Lorsque le niveau de la cascade s'abaisse sur toute la surface du substrat, la surface du substrat est exposée à la vapeur de séchage. De l'énergie mégasonique peut être dirigée dans le récipient intérieur de façon à accélérer le séchage par l'amincissement de la couche limite.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)