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1. (WO2005085951) PROCÉDÉ AUXILIAIRE DE FABRICATION DE MASQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D’ÉBAUCHE DE MASQUE ET SYSTÈME DE TRAITEMENT D’ÉBAUCHE DE MASQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/085951    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/003901
Date de publication : 15.09.2005 Date de dépôt international : 07.03.2005
CIB :
G03F 1/08 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : HOYA CORPORATION [JP/JP]; 7-5, Naka-Ochiai 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1618525 (JP) (Tous Sauf US).
ISHIDA, Hiroyuki; (US Seulement).
AIYAMA, Tamiya; (US Seulement).
MARUYAMA, Koichi; (US Seulement)
Inventeurs : ISHIDA, Hiroyuki; .
AIYAMA, Tamiya; .
MARUYAMA, Koichi;
Mandataire : IKEDA, Noriyasu; The Third Mori Building, 4-10, Nishishinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
60/551057 09.03.2004 US
Titre (EN) METHOD FOR SUPPORTING MASK MANUFACTURE, METHOD FOR PROVIDING MASK BLANK AND MASK BLANK DEALING SYSTEM
(FR) PROCÉDÉ AUXILIAIRE DE FABRICATION DE MASQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D’ÉBAUCHE DE MASQUE ET SYSTÈME DE TRAITEMENT D’ÉBAUCHE DE MASQUE
(JA) マスク作製支援方法、マスクブランク提供方法、マスクブランク取引システム
Abrégé : front page image
(EN)A mask blank is provided by forming a plurality of films, including at least a thin film to be a transfer pattern, on a board. At the time of patterning a resist film of the mask blank according to pattern data, film information to check with a pattern is obtained for each of a plurality of the films.
(FR)Il est prévu une ébauche de masque par formation d’une pluralité de films, comprenant au moins un film mince devant devenir motif de transfert, sur une plaque. Lors de la conception des motifs d’un film résist de l’ébauche de masque selon les données de motif, on obtient des informations sur les films pour examen au regard du motif de chacun d’une pluralité des films.
(JA) 基板上に少なくとも転写パターンとなる薄膜を含む複数の膜が形成されたマスクブランクのレジスト膜に対して、パターンデータに従ってパターン形成する際に、パターンと照合するための膜情報を、複数の膜それぞれについて取得する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)