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1. (WO2005085766) CAPTEUR DE GUIDE D'ONDE DE DISTRIBUTION A BASE DE POLYMERE DE MESURE DE PRESSION ET DE CISAILLEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/085766    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/006746
Date de publication : 15.09.2005 Date de dépôt international : 01.03.2005
CIB :
G01B 11/16 (2006.01), G01D 5/353 (2006.01), G01L 1/24 (2006.01), G02B 6/02 (2006.01)
Déposants : UNIVERSITY OF WASHINGTON TECHTRANSFER INVENTION LICENSING [US/US]; 4311 Eleventh Avenue NE, Suite 500, Seattle, WA 98105 (US) (Tous Sauf US).
WANG, Wei-Chih [--/US]; (US) (US Seulement).
REINHALL, Per, G. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : WANG, Wei-Chih; (US).
REINHALL, Per, G.; (US)
Mandataire : LITTLE-WASHINGTON, Jan, C.; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman, 12400 Wilshire Blvd., 7th Floor, Los Angeles, CA 90025-1026 (US)
Données relatives à la priorité :
60/548,965 01.03.2004 US
11/068,938 28.02.2005 US
Titre (EN) POLYMER BASED DISTRIBUTIVE WAVEGUIDE SENSOR FOR PRESSURE AND SHEAR MEASUREMENT
(FR) CAPTEUR DE GUIDE D'ONDE DE DISTRIBUTION A BASE DE POLYMERE DE MESURE DE PRESSION ET DE CISAILLEMENT
Abrégé : front page image
(EN)According to embodiments of the present invention, a distributed pressure and shear stress sensor (100) includes a flexible substrate (102), such as (PDMS), with a waveguide (104) formed thereon. Along the waveguide path are several Bragg gratings (106, 108, 110, 112, 114, 116). Each Bragg grating has a characteristic Bragg wavelength that shifts in response to an applied load due to elongation/compression of the grating. The wavelength shifts are monitored using a single input and a single output for the waveguide to determine the amount of applied pressure on the gratings. To measure shear stress, two flexible substrates with the waveguide and Bragg gratings are placed on top of each other such that the waveguides and gratings are perpendicular to each other. To fabricate the distributive pressure and shear sensor, a unique micro-molding technique is used wherein gratings are stamped into PDMS, for example.
(FR)Selon certains modes de réalisation, cette invention concerne un capteur de contrainte de pression et de cisaillement qui comprend un substrat souple, tel qu'un polydiméthylesiloxane (PDMS), avec un guide d'onde formé sur celui-ci. Le long du trajet de guide d'onde, plusieurs réseaux de Bragg sont placés. Chaque réseau de Bragg possède une longueur d'onde de Bragg caractéristique qui change en réponse à une charge appliquée due à une élongation/compression de ce réseau. Les changements de longueur d'onde sont surveillés au moyen d'une unique entrée et d'une unique sortie du guide d'onde de façon à déterminer la quantité de pression appliquée sur les réseaux. Pour mesurer la contrainte de cisaillement, le substrat souple avec le guide d'onde et les réseaux de Bragg sont placés les uns sur les autres de sorte que les guides d'onde et les réseaux soient perpendiculaires entre eux. Pour fabriquer ce capteur de pression et de cisaillement de distribution, une technique de micromoulage unique est utilisée, les réseaux étant, par exemple, matricés en PDMS.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)