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1. (WO2005085492) ÉQUIPEMENT DE FORMATION DE FILM ET MÉTHODE DE FORMATION DE FILM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/085492    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/003171
Date de publication : 15.09.2005 Date de dépôt international : 25.02.2005
CIB :
C23C 14/04 (2006.01), H01L 21/68 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01), H05B 33/14 (2006.01)
Déposants : ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500 Hagisono, Chigasaki-shi Kanagawa 2538543 (JP) (Tous Sauf US).
TANAKA, Hisato [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TANAKA, Hisato; (JP)
Mandataire : IISAKA, Yasuo; Utoku-building 6-85, Benten-dori, Naka-ku Yokohama-shi, Kanagawa 2310007 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-060097 04.03.2004 JP
Titre (EN) FILM FORMING EQUIPMENT AND FILM FORMING METHOD
(FR) ÉQUIPEMENT DE FORMATION DE FILM ET MÉTHODE DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置及び成膜方法
Abrégé : front page image
(EN)Film forming equipment and a film forming method, by which a film forming process can be performed immediately after aligning a substrate with a mask, a substrate transfer system between different types of chambers is eliminated and a film can be continuously formed. In a same vacuum chamber (2), an alignment unit (3) for aligning the substrate (5) with the mask (6), a transfer tray (4) for receiving the substrate (5) and the mask (6) from the alignment unit (3), and a plurality of film forming sources (81A)-(81F) which are arranged along a transfer path of the transfer tray (4) are provided. To transfer the substrate (5) and the mask (6) between the alignment unit (3) and the transfer tray (4), a magnet holder (61) is separated from a magnet lifting mechanism (12) through a locking part (67).
(FR)Équipement de formation de film et méthode de formation de film, par lesquelles un processus de formation de film peut être réalisé immédiatement après l’alignement d’un substrat avec un masque, un système de transfert de substrat entre différents types de chambres est éliminé et un film peut être formé en continu. Dans une même chambre à vide (2), une unité d’alignement (3) pour aligner le substrat (5) avec le masque (6), un plateau de transfert (4) pour recevoir le substrat (5) et le masque (6) de l’unité d’alignement (3), et plusieurs sources de formation de films (81A)-(81F) qui sont disposées le long d’un chemin de transfert du plateau de transfert (4) sont prévus. Pour transférer le substrat (5) et le masque (6) entre l’unité d’alignement (3) et le plateau de transfert (4), un support magnétique (61) est séparé d’un système de levée magnétique (12) par une pièce de verrouillage (67).
(JA) 基板とマスクのアライメント後、迅速に成膜処理を可能とし、異種チャンバ間における基板搬送システムを不要として、連続成膜にも対応することができる成膜装置及び成膜方法を提供する。  同一の真空チャンバ(2)内に、基板(5)とマスク(6)とを位置合わせするアライメントユニット(3)と、このアライメントユニット(3)から基板(5)とマスク(6)とを受け取る搬送トレイ(4)と、この搬送トレイ(4)の搬送経路に沿って配置される複数の成膜源(81A)~(81F)とを備え、アライメントユニット(3)と搬送トレイ(4)との間における基板(5)及びマスク(6)の移載は、マグネット昇降機構(12)に対してマグネットホルダ(61)を係止部(67)を介して分離させる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)